美光：晶圆厂产能利用率处于历史最低水平

集微网消息，美光在最近的财报电话会议上证实，该公司的内存晶圆厂产能利用率目前处于历史最低水平。

据台媒电子时报报道，美光没有公布具体的利用率数据，也没有预测产能何时会再次满载或恢复到健康的利用率水平。美光首席执行官 Sanjay Mehrotra 强调，该公司将继续监测市场需求，并可能在2024财年（2023年10月至2024年9月）之前维持低产能利用率，之后将根据库存和需求情况决定是否修改利用率。

美光发布的财报显示，2023财年第二季度营收同比下降约53%，至36.9亿美元，净亏损23亿美元。美光已进一步削减2023会计年度资本支出，目前预期将投资大约70亿美元、较2022年度缩减超过40%；2023年度晶圆厂设备（WFE）资本支出预估将年减超过50%、2024年度预估将进一步缩减。此外，2023年裁员目标进一步扩大到15%，高于此前10%的目标。

美光同时宣布，除了高阶主管减薪、全面停发2023会计年度奖金外，目前预期整体人力缩减比例将逼近15%（原先预估为10%），措施包括裁员（目前大致已完成）以及2023年12月底前遇缺不补。

另外，3月31日晚，网络安全审查办公室发布公告称，为保障关键信息基础设施供应链安全，防范产品问题隐患造成网络安全风险，维护国家安全，依据《中华人民共和国国家安全法》《中华人民共和国网络安全法》，网络安全审查办公室按照《网络安全审查办法》，对美光公司（Micron）在华销售的产品实施网络安全审查。

（校对/王云朗）