披荆斩棘的中国芯片，2021年吉时已到，国产光刻机将正式投入使用

如今中国的科技发展可谓是非常的迅速，已经是快到很多国家都难以企及的地步了，即便是拥有全国最多高等学府的美国，即便美国拥有全球最多的顶尖科学家，但是论科技发展的速度，美国仍然是远远不如中国。

可能有人会说，美国发展速度不如中国毕竟是因为美国的基数更大，所以发展速度肯定是不如的。但是我们从一个具体的数值上面去分析。一般而言，一个国家拥有的专利数量能够精准的反应一个国家在过去一年的时间里在科技领域的突破情况。

而中国在2019年的时候，年申请的专利总数已经超越了美国，这也是这几十年来第一个专利数量超越美国的国家。如果不是因为中国的科技实力进步太快，美国也不会对中国这么的忌惮。这也是为什么美国会对中国的科技企业动手的原因所在。

披荆斩棘的中国芯片，2021年吉时已到，国产光刻机将正式投入使用！其中美国芯片禁令就是为了针对华为乃至中国的半导体行业。不过可惜的是，尽管美国此举对我们造成了不俗的伤害，但是同时，我们国家也在美国的“鞭策”下更加迅速地成长。

中国已在半导体产业投资1.4万亿元人民币，中芯国际已经开发出新一代的N+1制程光刻机技术，相当于台积电的7nm制程，最最最重要的是，这项技术是纯国产技术，一旦进入批量生产，美国也没有办法只能干瞪眼。

即便从目前而言，中芯国际的这项技术和ASML之间还有着一些差距，但是这对于国内光刻机领域事业来说，就是一个极大的突破，中国也因此拥有了顶级的光刻机。而且中芯国际预计在2021年开始使用该技术。也就说说，从今年开始，我国的7纳米芯片将不再需要进口。