当前，光刻机工程的研发模式正发生显著转变，已从以往单一企业独立推进，演变为由多家单位协同开发并进行系统整合的大型系统工程。在此背景下，除了浸没式DUV光刻机开启小批量生产外，一家成立不足三年的初创企业——上海爱晟纳电子科技集团正逐渐进入公众视野。
据多位半导体设备行业人士透露，与业界熟知的上海微电子装备（SMEE）相比，爱晟纳在最近两年中所发挥的作用更值得深入观察。从公开的工商登记信息来看，该公司成立于2023年8月，初始注册资本超过70亿元人民币。如此庞大的起步资金远超普通初创企业，暗示其股东背景非同一般。
进一步分析其股权结构发现，爱晟纳并非仅由产业资本出资。其两大主要股东分别是上海电气控股集团，以及由上海国际信托全资控股的上海睿赛威尚企业发展有限公司，两者均属于上海国资体系。这表明该公司背后有着上海“产业结合资本”的强大力量支持。
据熟悉半导体设备发展的人士分析，如果仅仅为了满足设备制造需求，极少有初创公司在成立之初就配备如此巨额的资金。加之其股东并非普通的风险投资机构，该公司更像是为了执行某种特定任务而设立的。此外，股东睿赛威尚于2023年8月11日注册成立，仅5天后爱晟纳便宣告成立。这种几乎同步的诞生时间，使得前者更像是专门为投资后者而搭建的持股平台。
在地理布局上，爱晟纳与另一家光刻机初创企业上海宇量升科技均坐落于上海浦东唐镇半导体产业集群的民冬路，两者相距仅数百米。尽管在股权层面没有直接的交叉持股，但据业内人士指出，近年来这两家企业在人才交流、技术攻关和项目合作上互动密切。爱晟纳的定位更偏向于后续的资源整合平台，而非单纯的独立设备制造商。
除了SMEE继续推进整机研发外，涉及宇量升、光源、光学系统、双工件台等领域的不同技术团队，正开始向平台化整合，以避免研发资源的重复投入。据市场消息，目前的组装平台、供应链分工及验证流程，已采用大型系统工程模式。诸如193纳米ArF光源、高数值孔径（NA）投影物镜、双工件台以及浸没式控制系统等核心模块，均由不同机构分别研发后再进行统一的系统整合。
在过去，SMEE主要承担光刻机技术研发的主体工作；而现在，爱晟纳似乎扮演着总装平台或项目管理平台的角色，致力于将各项研发成果推向工程化量产阶段。不过，这些企业之间的具体关联尚未得到官方证实，整体运作保持低调。市场甚至有传言称，由于此类企业可能涉及国家级重大项目，对外披露的信息极为有限，相关资料已被纳入较高等级的保密管理体系。
