美国《MATCH法案》修正版
来源:林慧宇发布时间:2026-04-17933浏览
询问 AI4月17日,据路透社报道,美国众议院此前提出的《MATCH法案》最新版本虽删减了部分限制条款,但仍保留对荷兰光刻机厂商ASML浸没式深紫外光(DUV)光刻机对华出口的限制,同时对中国大陆的中芯国际、长江存储和长鑫存储等芯片企业设定了供应门槛。
该法案由共和党众议员Michael Baumgartner于4月2日提出,并获得跨党派支持。其核心目标是弥补现行对华半导体设备出口管制的漏洞,同时推动美国与日本、荷兰等主要半导体设备供应国的政策协调,以巩固美国在人工智能领域的技术优势。
与4月初的版本相比,最新修正版删除了部分争议条款,例如对中国大陆全面实施的低温蚀刻设备限制。此前,业界普遍批评该条款范围过于宽泛,甚至被称为“失控列车”,认为其将对美国及其盟友的设备厂商造成严重冲击。
不过,修正版仍保留了关键限制措施。根据草案,外国企业不得向被美国列为限制使用其技术的中国大陆半导体企业提供设备,涉及中芯国际、长江存储和长鑫存储等企业。此外,相关设备的维修与服务需申请许可证,但审查政策不再采取“一律拒绝”的方式。
值得注意的是,法案还为美国政府与盟友的协商设定了明确期限。若未能在规定时间内达成政策一致,美国将单方面扩大管制措施。
自2022年实施大规模芯片出口管制以来,美国持续与荷兰、日本协调设备限制政策,虽取得一定进展,但美国设备商仍认为竞争环境不够公平。
中国方面对此表示反对。中国驻美大使馆发言人刘鹏宇强调,中方反对美方以国家安全为由对中国实施技术封锁,并指出中国在维护全球产业链和供应链安全稳定方面发挥了重要作用。
面对美国试图打造排他性供应链的举措,中方立场明确。刘鹏宇表示,中国反对任何国家建立排他性贸易集团,扰乱国际贸易秩序。
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