英伟达推出全新软件库加速计算光刻效率

集微网消息，据外媒报道，英伟达公司日前在GTC大会上宣布，将与与ASML、Synopsys和台积电合作，推广使用其“cuLitho”软件库进行计算光刻，表示该库将使其合作伙伴能够以更高的效率设计和制造下一代芯片。

英伟达方面认为，通过在GPU而不是通用CPU上运行，复杂IC光刻图案背后的计算效率可以提高40倍。cuLitho软件用于将工作负载转换为可以利用GPU并行性的格式。这使500个 NVIDIA DGX H100 系统能够完成40000个CPU系统执行的工作。

使用cuLitho的晶圆厂每天可以使用九分之一的功率生产三到五倍的光掩模。该公司还表示，需要两周才能生产的光掩模可以使用cuLitho和GPU在一夜之间进行处理。从长远来看，cuLitho将实现更好的设计规则、更高的密度、更高的产量，并且是通向AI驱动的光刻技术的途径。

黄仁勋还透漏，Hopper架构GPU将使用cuLitho库进行设计和制造。台积电方面也回应称，“这一发展为台积电在芯片制造中更广泛地部署逆光刻技术和深度学习等光刻解决方案开辟了新的可能性，为半导体规模的持续发展做出了重要贡献”。