页面加载中,请稍候
来源:拓墣产业研究发布时间:2023-03-211838浏览
询问 AI昨日,华懋科技发布公告称,公司2022年营收约为16.37亿元,同比增长35.75%;净利润约为1.98亿元,同比增长12.68%。
针对光刻材料业务,华懋科技则表示,公司重要参股公司徐州博康作为国内领先的 IC 光刻胶与光刻材料公司,2022年以来在光刻胶相关的技术与工艺环节突破不断,也得到了下游客户的认可,有多款高端光刻胶产品分别获得了国内12寸晶圆厂的相关订单,包括 ArF-immersion 产品及ArF-dry,KrF,I-line等。其中,ArF-immersion产品已经适用于28-45nm制程。具体分品类来看:
(1)ArF光刻胶有26款产品,其中ArF-immersion15款,ArF-dry 11款,可应用于14-90nm制程节点;有9款ArF-immersion及ArF-dry光刻胶正在客户端进行产品验证导入量产,品种 类涵盖55nm、40nm、28nm及以下的关键层工艺以及LOGIC,3D NAND,DRAM等应用领域。2022 年以来形成销售的Arf光刻胶有4款。
(2)KrF光刻胶有30款产品,其中,高分辨的KrF光刻胶,最小分辨率可达120nm CD,产品可应用于14nm-180nm制程中;KrF中厚胶,主要为L/S,针对8-12寸抗刻蚀层;KrF厚胶,主要针对高深宽比及高台阶覆盖的应用;KrF负胶,主要针对IC端和器件类特殊工艺应用;有20余款KrF光刻胶正在客户端进行产品验证导入量产,产品种类涵盖55nm、40nm、28nm及以下的关键层工艺以及集成电路、分立器件、传感器等应用领域。2022年以来形成销售的 KrF光刻胶有15款。
(3)I线光刻胶有15款产品,主要为化学放大型光刻胶,相对于传统光刻胶,化学放大型光刻胶具有更高的分辨率、对比度和深宽比。有10多款I线光刻胶正在客户端进行产品验证导入量产,产品种类涵盖高能注入、抗刻蚀等关键层工艺以及PAD、lift-off等应用领域。2022 年以来形成销售的I线光刻胶有12款。
光刻胶是一种对光敏感的混合液体,其主要作用是通过光化学反应,基于曝光、显影等光工序将所需要刻蚀的细微图形从光罩(掩模版)转移到待加工硅基片上。除了提高加工精度,光刻胶还可以保护硅基材免受腐蚀,阻止离子影响。
光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料,广泛应用于350nm-14nm甚至 7nm 技术节点的集成电路制造工艺。
目前,随着国内IC行业的快速发展,自主创新和国产化步伐的加快,以及先进制程工艺的应用,光刻胶的用量大大增加。
2022年7月,华懋科技联营企业东阳华芯拟以20亿元投资年产8000吨光刻材料新建项目。
项目规划年产8000吨光刻材料,主要包括ArF光刻胶系列(包含单体和树脂合成)、KrF光刻胶系列(包含单体和树脂合成)、半导体厚膜封装胶、半导体用光敏性聚酰亚胺(PSPI)、PCB油墨、三羟甲基丙烷、三丙烯酸酯等配套试剂。(文:拓墣产业研究 Amber整理)

球分享

球点赞

球在看
新闻来源:拓墣产业研究,文中所述为作者独立观点,不代表icspec立场。更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj。
暂无评论哦,快来评论一下吧!
2026-06-26

2026-07-15

2026-06-12