2月28日，应用材料（Applied Materials Inc）推出了一款新的电子束测量设备，专门用于精确测量采用EUV和新兴的High-NA EUV光刻技术的半导体器件的关键尺寸，可有效降低光刻工艺的成本。
据悉，该设备被称为VeritySEM®10关键尺寸扫描电子显微镜（CD-SEM）测量系统。
据应用材料公司称，与传统CD-SEM相比，该设备能够以较低能量实现2倍分辨率，并提升30%的扫描速度。该设备领先的分辨率和扫描速率改进了对EUV和High-NA EUV光刻和蚀刻工艺的控制，以帮助芯片制造商加速工艺开发并最大限度地提高大批量制造的产量。
“VeritySEM®10是CD-SEM技术的一项突破，它解决了未来几年将塑造行业的重大技术变化带来的计量挑战，”应用材料公司成像和过程控制集团副总裁Keith Wells说，“该系统独特地结合了低着陆能量、高分辨率和更快的成像速度，有助于为High-NA EUV、Gate-All-Around晶体管和高密度3D NAND铺平道路。”
此前，应用材料发布了2023财年第一季度报告，报告期内公司实现营收67.4亿美元。基于GAAP（一般公认会计原则），公司毛利率为46.7%，营业利润为19.7亿美元，占净销售额的29.2%，每股盈余（EPS）实现创纪录的2.02美元。
在调整后的非GAAP基础上，公司毛利率为46.8%，营业利润为19.9亿美元，占净销售额的29.5%，每股盈余为2.03美元。
公司实现经营活动现金流22.7亿美元，通过2.5亿美元的股票回购和2.2亿美元的股息派发向股东返还4.7亿美元。（文：拓墣产业研究 Arely整理）
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