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来源:韩青秀发布时间:2022-11-031688浏览
询问 AI虽然存储器市况陷入低潮,但存储器大厂美光(Mircon)全力推进最新1β(1-beta)DRAM,如同上一代1α(1-alpha)制程率先应用于高端手机,美光表示,在1β量产全面就绪,其LPDDR5X移动存储器将为特定智能手机制造商与芯片组合作伙伴提供验证样品,先在日本广岛厂率先量产,2023年将扩大于中国台湾厂导入量产出货。
美光DRAM制程整合副总裁Thy Tran指出,2021年1α制程进入量产,如今1β进一步确立美光的领导地位再下一城。1β节点为新时代制程技术,相当于13纳米级以下的制程技术。
美光存储器制程维持2季度领先态势
虽然市场传出其他竞争对手打算超车追赶,Thy Tran表示,在关注竞争对手的态势之余,美光仍然维持自己发展步调,从量产进度来看,当初原先预期在1α制程可能领先约2季度,但结果却是足足领先1年,如今看来1β制程至少也能领先2个季度,预计在未来下一代的1γ(1 gamma)也将维持领先的成绩。
美光技术与产品执行副总裁Scott DeBoer表示,虽然半导体市场总会经历起伏循环周期,但美光的目标是希望维持位元市占率及扩大获利能力,而1β DRAM 正代表存储器技术的飞跃式创新,主要来自于独家的多重曝光微影技术、领先的制程技术,以及先进的材料能力,并将每存储器晶圆的位元数提升到史上新高。
美光1β节点有独家技术 不需使用EUV设备
相较于其他韩系存储器大厂陆续启用极紫外光(EUV)设备,透过设备克服物理极限的技术挑战,美光强调,在1β节点将透过先进纳米制造能力与微影技术,以跳过仍处于新兴阶段的极紫外光技术,并应用美光独门的先进多重曝光技术和沈浸式微影能力,以最高精确度做出这些微小的电路特征。由于1β节点可将更高的存储器容量塞入更小的空间内,降低每位元数据的成本。
美光指出,由于DRAM的技术进展,主要取决于如何在每平方毫米的半导体面积内,提供更多和更快的存储器,这将需要缩小电路,将数十亿个存储器单元收纳在约莫指甲大小的芯片中。随着每个制程节点的演进,半导体产业每一两年缩小芯片尺寸缩小1次。
1β节点产品率先应用于LPDDR5X移动存储器
1β节点降低功耗约 15%,提升位元密度超过35% ,每颗晶粒容量可达 16Gb,将率先用在美光的LPDDR5X移动存储器上,最高速度来到每秒8.5 Gb等级。除了移动设备外,1β带来的低延迟、低功耗、高效能DRAM,更可支持各种高度回应式服务、实时服务、体验的个人化与脉络化,从智能车辆到数据中心均可受惠。
Scott DeBoer表示,美光在2022会计年度的MCP多芯片封装约有50% DRAM及60%NAND,采用1a制程及176层技术,2022年7月已出货独步全球的232层NAND,随着 LPDDR5X开始送样,预期移动设备生态系将率先受惠于1β DRAM所带来的效能显着提升以及更低的功耗,手机客户将能设计出电池续航力更久的装置。
随着网络趋势将需要快速、无处不在、节能的存储器来推动数码化和自动化;美光表示,1β DRAM 节点将为互联世界的进步打造灵活好用的基础,在需要大量数据的智能装置、系统和应用程序达到更节能的数据传输,2023年将开始在嵌入式、数据中心、PC、消费电子、工业和汽车领域扩大导入1β产品组合,包括绘图存储器、高带宽存储器等。
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