光刻机是芯片领域最重要的设备，也是制造最难的设备之一，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。华为断供事件让我们看到了深刻体验到卡脖子的痛苦，也深刻地意识到了光刻机的重要性。
我国是最大的芯片消耗国，芯片需求占全球的50%以上，但截止到21年中国的芯片自给率仅为36%。十四五提出到，到25年我国芯片自给率要达到70%。为此拥有我们自给光刻机和相关产业链势在必行。
据知名博主花粉影视fans爆料，高端国产光刻机和相关产业链即将到来，结合到之前对上海微电DUV光刻机的爆料，国产国产光刻机或很快到来。
从爆料中我们可以看出28nm已近突破，但这要纠正一点光刻机没有具体nm之说。上海DUV光刻机若是做出来最高可作出7nm的芯片，当年台积电7nm芯片便是通过DUV光刻机反复曝光做出来的。所以说突破28nm之后，我国芯片制造将驶入快车道，后续的突破将更快。
拥有国产光刻机是核心，但不是全部。拥有完整产业链，才可以算是完全破局。我国工业起步晚，虽然现在制造业全球第一，但主要是集中在中低端。高端制造业还是主要集中在西方发达国家，更何况是半导体行业。芯片制造业的主要设备专利还是垄断在美日手中，这就说明芯片产业链中我们缺的不单单是光刻机。所以图中所说28nm已经突破，但是产业突破却用将来时的原因所在。但是随着最难的光刻机问题的解决，其它卡脖子技术突破只会更快，国产芯片行业突破指日可待。
我们国家有着五千年的历史，且我们的综合国力在持续增强，我们有理由相信西方的打压只是徒劳，打不败我们的将会使我们更强大。
