随着全球半导体竞争加剧，中美高科技对抗进入新阶段。为遏制中国在半导体领域的进步，尤其是微影曝光技术，美国商务部在拜登卸任前，对中国本土曝光机与关键零组件实施封锁。

曝光机是半导体制造中的关键设备，对中国能否突破7纳米以下先进制程至关重要。由于ASML的先进机型已被禁运，中国将曝光机研发视为自主可控的核心目标。

然而，美国持续加大打压力度，将多家中国科研机构列入实体清单，包括中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和上海光学精密机械研究所。

这些科研机构在曝光机研发方面已取得一定进展，虽然尚未达到EUV水准，但仍多次传出突破消息。美国政府担心，中国的自主研发能力将削弱其在半导体领域的主导地位。

业内人士认为，中国曝光机研发仍需时间，但随着国家对半导体自主技术的投入增加，未来可能倒逼出令人意外的结果，促使更多本土企业参与曝光机研发与合作。

其中，长春光机所和上海光机所在精密光学领域扮演重要角色，被誉为中国的“小蔡司”，对提升本土曝光机精度至关重要。