无需EUV光刻机，7nm芯片传来好消息，5nm芯片展开技术攻关

光刻是芯片制造中最关键的技术，光刻工艺与芯片中晶体管的尺寸与性能直接相关。光刻机的精度，限制了芯片的最小尺寸。

目前，生产7nm及以下制程芯片，需要依赖光源波长为13.5nm的EUV光刻机。ASML是唯一能生产EUV光刻机的企业。

然而，受《瓦森纳协定》的限制，ASML进入中国市场已有30多年，中国大陆却始终没有买来一台EUV光刻机。这限制了中国芯片制造业的发展。

即便如此，中芯国际依然没有放弃对更先进制程芯片的攻克。在2019年末，中芯国际实现了14nm芯片的量产。

而据中芯国际联席CEO梁孟松透露，中芯国际7nm技术已经完成开发，将在2020年4月份进入风险量产。在近日，中芯国际又传出了新消息。

7nm芯片迎来突破

日前，中芯国际12英寸“SN1项目”曝光，这是其14nm及以下工艺研发与量产的主要承载平台，将推动中芯国际早日实现7nm制程。

而且，中芯国际的7nm并不需要EUV光刻机。

如此一来，中国芯片制造业将向前迈进一大步，实现高端芯片自给自足。

据悉，中芯国际SN1项目将耗资90.59亿美元，仅购买与安装生产设备便要73.3亿美元。

按照计划，中芯南方将负责这一项目，计划产能为3.5万片晶圆/月。

5nm芯片展开技术攻关

在更先进的5nm芯片上，中芯国际早已开始布局，并取得了一定的成果。

在前段时间梁孟松辞职风波中，据网传梁孟松辞职信透露，中芯国际5nm和3nm的最关键、也是最艰巨的8大项技术也已经有序展开。

等EUV光刻机到来之后，中芯国际便可全力开发。这无疑是一个振奋人心的好消息。

在中芯国际的带领下，国产芯片迎来突围，离着2025年芯片自给率70%的目标越来越近。

芯片制造困境

但是，EUV光刻机是中芯国际攻克5nm，必不可少的关键设备。目前，ASML已对可生产7nm芯片的DUV光刻机松口，但对于EUV光刻机却丝毫没有回旋的余/span>

EUV光刻机短缺，仍是挡在中国芯片路上的巨大拦路石。光刻机研制难度高，是半导体皇冠上的明珠。

一台光刻机的零部件高达10万个，其中超90%的零部件，都是ASML都依赖于供应商。也就是说，中国想要研究并制造出一台EUV光刻机难度极大，无法帮中芯国际缓解眼下的危机。

在这一情况下，中芯国际将如何应对，就让我们拭目以待。

文/BU审/QKF