不等光刻机？华为走了一步“险棋”，国产芯片或弯道超车

在中美日益激烈的科技竞争环境下，每当我们提到芯片，大家都会想到光刻机，由于光刻机属于精密设备，光刻机巨头ASML曾一度放出豪言“即便公开图纸，其他人也没办法制造出来”，可以说光刻机的研发、制造非常复杂，所以光刻机在芯片制造过程中占据着重要的位置。

近两年国产IT产业的发展已步入到了“快车道”，在需要大量芯片作为支撑的情况下，却引起了西方的“频频照顾”，尤其像华为这样的能只身孤影在全球多项科技领域崭露头角的企业，在科技对抗中遭到了美国的重点关注，导致华为陷入“芯片危机”。

在我们为华为鸣不平的同时，我们也看到了华为对西方芯片垄断所作出的反抗，不仅继续坚持对芯片的自主研发，更是宣布全面扎根半导体，突破光刻机等方面的瓶颈，从而解决芯片制造的问题，除此之外，国内最高科研机构中科院也宣布集全院力量解决光刻机的难题，之后国内掀起了一股“造芯潮”！

华为走了一步险棋

但华为并没有“佛系”的等待高端光刻机的诞生，而是走了一步“险棋”。2月2日，华为公开了一项芯片专利，即光计算芯片、系统及数据处理技术。经常关注芯片的网友也许都知道，由于摩尔定律的缘故，提升信息处理和运算工作的载体，尤其在传统的芯片领域，其存储密度和运算速度将达到物理瓶颈，在这种背景下，寻找新的载体，不仅有可能让国产芯片实现弯道超车，更能打造出更强的芯片。

什么是光芯片？

所谓光芯片，就是利用半导体发光，结合光的抗干扰性强、传播速度快等特性，从而驱动其他硅光子器件，最后形成一个可以完成大型综合计算的芯片，并且在工艺方面不依赖ASML的高端光刻机，据业内人士表示，光芯片与传统芯片相比存在两大优势：运算速度提升了50%左右；功耗降低至原来的100%左右。

其实关于华为光芯片专利的公布，早有端倪，今年1月，俄媒引用ASML曝光的内容，表示华为已经着手开始打造光芯片，并且为避免美国干扰华为的光芯片计划，华为、国内光刻机企业、芯片制造企业纷纷将美国注意力转移到了光刻机领域，俄媒体表示“这就是中国智慧”！

不过，从宏观角度来讲，发展光芯片、石墨烯芯片是大势所趋。在传统芯片领域，西方占据着绝对优势，为避免国产芯片未来再一次被西方卡脖子，华为加速申请、公布光芯片专利，也是希望能在未来光芯片领域占领市场先机，做到未雨绸缪！不难看出，任正非确实有远见，国产芯片在光芯片领域弯道超车将成为大概率事件！

关于华为公开的光芯片专利技术，大家怎么看？