比光刻机更好用！中国科研团队展示新设备，国产芯片迎来转机

我国对于芯片的急需性和紧迫性

或许很多人都有疑问，我国在上天入海的高科技领域都已经跻身世界前列，为何国产科技企业会被在芯片方面被西方难到。

要知道，芯片被誉为工业时代皇冠上的明珠，是智能科技产品的“大脑”，是推动科技进步的基础。相比西方，我国在半导体芯片领域起步较晚，因此长期几乎都依赖欧美地区。

这些年随着我国高科技领域的快速发展，芯片的消耗也是水涨船高，据统计，年均进口值已高达3000亿，远超石油。

因此，芯片问题刻不容缓。

任正非曾说，华为海思可以设计出全球最顶尖的芯片，但国内却没有相应的制造技术。

芯片制造方面，最关键的设备是光刻机，这正是我们最薄弱的环节。全球最先进的EUV光刻机只有荷兰的ASML能生产，但却含有20%的美技术与零配件，加上产能不足的因素，我们是一机难求。

相比荷兰能够生产5nm工艺芯片的高端EUV光刻机，我们国内的光刻技术只停留在180nm的层次，这差距显然不是一朝一夕就能赶上的。

然而芯片问题又急需解决，在中科院将光刻技术列入“科研任务清单”之后，中国院士倪光南提出了这样的建议：中国芯需要选择新灯塔、新航道。言外之意就是我们既然短期内难以突破光刻机这个“拦路虎”，那就想别的办法代替或者绕开。

国内科研团队展示”冰刻机“

果然，近日国内科研团队传来了好消息。浙江西湖高等研究院曝光了“冰刻机”，从技术层面来看，冰刻技术完全可以替代光刻机，甚至比光刻机造出来的芯片性能更好。

冰刻领域，仇旻教授带领的团队已经研究了9年。冰刻机与光刻机不同，前者是在-140度密封真空的环境下，通过水蒸气结冰的特性，在晶片上形成冰膜，通过电子束实现在冰膜上刻画，形成三维集成电路结构。

据有关人士称，国产冰刻技术已经到达了相当高的水准，可以在光纤末端做出精度为微纳米级的冰雕，而且“产能”非常好。完全可以媲美传统的光刻机。

相比光刻机，冰刻机有着明显的优势。

用光刻造芯，光刻胶是必须品，需均匀地涂抹在晶片上，胶与晶片的性能都会影响到了芯片的精度。而冰刻造芯完全没有这些问题，冰膜的作用就如光刻胶之于光刻机，可以运用物理温度转变的技术，实现更高精度芯片的制造。

在国产芯片发展的十字路口，冰刻机的出现就像是一条康庄大道，给芯片困境带来了转机。

写在最后

有了冰刻机做保障，我们既可以安心的在传统光刻领域继续进行技术追赶，也不至于因为小小的芯片而导致国产高科技的发展陷入停滞。

目前的问题是冰刻机与传统芯片制造产线上其他设备的结合，毕竟芯片的制造除了光刻机之外，还有蚀刻机、离子注入机、单晶炉等很多设备。不过，最复杂、最困难的光刻机已经解决，其他问题还能难到我们的科研人员吗？