美国拟推新法案全面管制DUV设备出口中国

据媒体报道，美国国会议员近日提出一项名为“硬件技术多边协调管制法案”（MATCH Act）的草案，计划联合荷兰与日本等盟友，加强对华芯片制造设备出口的限制。该草案重点扩大了对浸润式深紫外光光刻机（Immersion DUV）的管制范围，从原先的部分型号限制升级为全面管控。

据悉，这项草案由美国众议院草拟，内容涉及强化对荷兰ASML以及日本TEL（Tokyo Electron Ltd.）等半导体制造设备商的现有销售限制。知情人士透露，参议院版本预计将在本月晚些时候推出。

此外，法案还计划对部分中国企业的出口实施更严格的限制措施，以进一步加强对半导体制造领域的管控。

报道指出，这一法案若通过，将对全球半导体供应链产生深远影响，尤其是涉及DUV光刻机的交易。