上海芯上微装科技股份有限公司（AMIES）宣布，其自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）已完成出厂调试与验收，正式发往客户现场。
芯上微装介绍称，AST6200光刻机是基于多年光学系统设计、精密运动控制与半导体工艺理解积累打造的高性能设备，专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制。
该设备的核心性能亮点显著。首先，其搭载大数值孔径投影物镜，结合多种照明模式与可变光瞳技术，实现了350nm的高分辨率，能够满足主流化合物半导体芯片的光刻工艺需求。其次，设备配备了高精度对准系统，正面套刻精度达到80nm，背面套刻精度为500nm，确保多层图形精准套刻，提升器件良率。
此外，AST6200在高产率设计上也有突出表现。其采用高照度I-line光源（波长365nm，属于深紫外线UVA级别），并配备高速直线电机基底传输系统，支持多种规格基片的快速切换，显著降低设备拥有成本（COO）。同时，高速高精度运动台系统最大加速度达1.5g，进一步提升了单位时间产能。
在工艺适应性方面，该设备兼容多种材质与形态的基底，包括Si、SiC、InP、GaAs、蓝宝石等材质，支持平边、双平边、Notch等多种基片类型。其创新调焦调平系统采用多光斑、大角度入射设计，可精准测量透明、半透明、不透明及大台阶基底，并支持背面对准模块，满足复杂制程需求。
值得一提的是，AST6200光刻机搭载了芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理均实现100%自主可控。
