广州发布新政策：鼓励高端半导体制造材料发展

近日，广州市黄埔区工业和信息化局、广州开发区经济和信息化局近期发布了《广州开发区 广州市黄埔区促进集成电路产业发展办法》，以鼓励发展大硅片、光掩膜、电子气体、光刻胶、抛光材料、高纯靶材、光芯片等高端半导体制造材料。

同时，该政策还支持清洗设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入、沉积设备、封装设备（划片机、减薄机、引线键合机、倒装键合机及贴片机等）、检测设备（测试机、探针台等）以及单晶生长炉、外延生长炉等设备、关键零部件，并鼓励将使用工具尽量用国产工具来进行代替。

在资金支持方面，《发展办法》明确了对当年产值首次达到不同级别的集成电路装备、材料、零部件类企业给予相应的扶持资金。例如，对于当年产值首次达到2000万元、5000万元、1亿元、3亿元、5亿元、10亿元的企业，分别给予20万元、50万元、100万元、200万元、300万元和500万元的扶持。同一企业按差额补足方式最高可获得500万元的扶持。