国内多重曝光弯道超车梦断 荷兰「以审代禁」埋未来松绑伏笔？

荷兰外贸大臣Liesje Schreinemacher日前发布不针对特定对象国的荷厂半导体设备出口管制新规，也同时在荷兰政府公报《Staatscourant》上，发布详尽技术文件说明，以此划下荷兰政府管制红线规格。

对于不言自明遭到锁定的国内半导体晶圆制造业者，诸如中芯国际而言，荷兰政府此番钜细靡遗的规定，究竟是好是坏？又透露着何种信息？当真是要让中芯止步于45/40纳米制程时代，使其28纳米产能扩建计划受挫？

再者，透过ASML官网上「大力推销」扫描设备光源波长介于193~365纳米之间的乾式DUV微影设备，强调成熟制程打造的「简单芯片」更具有市场动能的宣传，是否也在某种程度上，向国内业者招手，吁其暂先锁定成熟产能开出？

相较于美光（Micron）遭到国内网信办祭出采购禁令，以其存储器产品对国内国家安全恐有危害之虞为理由，却并未明示美光究竟触犯了国内境内哪些法规细节，对比之下，荷兰政府此番开出详尽管制规格，不仅让荷厂ASML等业者有所依循，是否也埋下未来松绑伏笔？

诚然，以荷兰政府公报列出的管制红线，但凡扫描设备光源波长小于193纳米，抑或波长虽等于或大于193纳米，但最小分辨率低于45纳米（含）以下，均落入必须「向当局申请出口许可的管制之列」，如此一来，ASML旗下4种浸润式DUV微影设备，目前似乎只有2015年开始出货的TWINSCAN NXT:1980Di机种，暂免列管。

按照ASML日前声明表示，另外3种型号的高端浸润式DUV微影设备，包含TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i，从9月起，将受到列管并被荷兰政府管制出口，当局未来将采取审理荷厂出口许可证的方式，依个案决定是否放行出货。

究竟这些受到荷兰政府宣称「必须列管」的浸润式DUV微影设备，为何继2019年ASML EUV系统禁售国内后，如今也必须接受列管？

简言之，相较于193纳米波长的乾式DUV微影设备，ASML从2015年开始出货的TWINSCAN NXT:1980Di，象徵多重曝光微影技术发展跨入新的里程碑，此后，包括如今列管的TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i，已有能力助攻中芯国际，在仅有DUV曝光机的条件下，透过「自对准多重曝光（Self-Aligned Multiple Patterning, SAMP）」技术，做出了7纳米的芯片，引起全球瞩目。

由此观察，从美日荷三国联手围堵国内先进制程半导体设备材料供应伊始，应是锁定了掐断国内多重曝光、弯道超车量产10/7/5纳米芯片的目标，如今，再加上荷兰政府高度管控ASML浸润式DUV曝光机出货国内业者的生杀大权，恐怕也让国内半导体业者退回到布建乾式DUV微影设备的时代。

与此同时，ASML的官网也愈发强调，乾式DUV系统协助半导体业者生产成熟制程芯片的重要性，而其锁定的对话客户，已然不言而喻。

光源波长193纳米的乾式DUV微影系统，也能助攻厂商打造28纳米制程，假使加上ASML支持多重曝光的浸润式微影机台TWTWINSCAN NXT:1980Di，仍可供货国内，未来以中芯为例，理论上要做出28纳米芯片并非办不到，但要达到顶级的商业量产效率，恐难达标。

美日荷三国连线要切断的是国内7纳米以下先进制程推进，如今即便会让中厂28纳米量产卡卡，但在表面上，仍可宣称其掐断的是军民两用的先进制程军事应用，与成熟制程无关。