断供国内高端DUV曝光机 中芯等28纳米以下商业量产受挫

荷兰政府赶在2023上半年的最后一天，于6月30日正式宣布强化输中出口管制新措施，而在当局跟进美国和日本，对技术出口实施严格限制后，未来ASML出口国内约数10台的高端DUV微影设备，必须在事先取得荷兰当局的许可之后，才能出口国内业者。

对此，外媒指出，此举将严重冲击国内晶圆制造本土业者包括中芯国际、华虹半导体等厂，在28纳米以下商业量产的推进与扩产计划，至于国内业者业已下订、但尚未交付的高端DUV曝光系统，恐怕难以取得荷兰当局放行。

综合金融时报(FT)、路透(Reuters)等报导，荷兰政府表示，从9月1日起，未经当局许可，将禁止可用于「先进军事应用」的高端半导体设备出口海外。

荷兰政府的前述管制措施与日本最近实施的出口管制措施类似，其中包括能够支持生产45纳米(含)以下制程节点的相关设备。

美国政府继2022年10月间进一步收紧出口国内管制措施后，锁定盟国多边管制，为此，日本、荷兰与华府当局为此强化出口管制，已进行了长时间的谈判。

三方终于在2023年1月间取得共识，强调要在美国单边管制自家美系设备业者供货国内以外，进一步扩大三边围堵出口管制，由美日荷进一步收紧对国内输出关键设备。

ASML表示，荷兰政府扩大管制的范围，将涵盖其最先进的浸润式DUV微影系统。

报导指出，ASML旗下的四种浸润式曝光系统当中的三种型号，将受到新规则的约束，但ASML并未详述受到当局收紧管制的机种型号。

据悉，荷兰政府进一步收紧管制出口后，恐将使得国内芯片制造商无法以商业规模制造小于28纳米的半导体。此举恐将使得最新手机AP和AI芯片等尖端应用的制造，对中芯国际等国内半导体业者来说，基本上已是遥不可及。

据两位知情人士透露，国内半导体业者先前向ASML订购的数十台高端DUV系统，原定于未来几年交付，但目前恐怕难以取得当局出口许可证。