荷兰半导体管制新规：ASML成熟DUV光刻机不受影响！

迫于美国压力，荷兰政府8日证实，将在夏季前实施新的出口管制。据报道，新的出口管制涉及最先进的浸入式深紫外光光刻机（DUV）设备，ASML 对此表示，新管制包括最先进的沉积和浸润式光刻机（immersion lithography）设备，公司将为最先进的浸入式 DUV 系统申请出口许可证。
ASML 也强调，这项新管制没有包含所有的浸入式光刻机设备，而是所谓的“最先进”工具，但还没接收到有关最先进的定义和信息。从公司官网可以看到目前ASML主流的DUV光刻机有三款设备：

该公司认为最先进的设备可能是 TWINSCAN NXT：2000i及随后推出的浸入式设备。NXT：1980iDUV光刻机则不在管制范围之内(NXT：1980i这款设备也是当年武汉曾经花费了7200万美元购买过的设备。) 。而如果需要购买2000i及更先进的设备则需要申请出口许可证。

从ASML官网获悉，1980i与2000i具有相同的光学及量产指标。都采用了193nm的深紫光源，单次曝光最大分辨率支持到38nm。DUV光刻机是通过多次曝光技术也可突破到10nm工艺之内。

ASML表示，那些专注于成熟工艺的客户可以使用不太先进的浸入式光刻设备，并称公司的长期方案主要基于全球普世需求和技术趋势。ASML 的 EUV 设备自 2019年就开始受到限制。

最后ASML表示，目前荷兰政府的措施不会影响2023年财务前景，或者对长期前景产生重大影响。

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