ASML：并不适用于所有的浸入式光刻设备

ASML发布关于荷兰增加出口管制的声明：并不适用于所有的浸入式光刻设备

荷兰政府周三表示，计划对半导体技术出口实施新的限制以保护国家安全，加入美国遏制对华芯片出口的行列。

荷兰半导体设备制造商ASML随后在官网发布了关于增加出口管制的声明。

以下为声明全文：

今天，荷兰政府发布了更多关于即将出台的半导体设备出口限制的信息。这些新的出口管制主要针对先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和浸没式光刻工具。

由于这些即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能装运最先进的浸没式DUV系统。

这些控制措施要转化为立法并生效还需要时间。

基于今天的公告、我们对荷兰政府许可政策的预期以及目前的市场形势，我们预计这些措施不会对我们发布的2023年财务前景或去年11月投资者日期间宣布的长期情况产生重大影响。

在这方面，重要的是要考虑到额外的出口管制并不适用于所有的浸入式光刻工具，而只适用于所谓的“最先进的”。虽然ASML没有收到任何关于“最先进”的确切定义的额外信息，但ASML将其解释为“临界沉浸式”，ASML在我们的资本市场日中将其定义为TWINSCAN NXT:2000i和后续的沉浸式系统。此外，ASML指出，主要关注成熟节点的客户可以使用不太先进的浸入式光刻工具。最后，阿斯麦的长期设想主要是基于全球长期需求和技术趋势，而不是详细的位置假设。

值得提醒的是，自2019年以来，ASML的EUV工具的销售已经受到限制。