国产光刻机突破关键技术！

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2月21日消息，据哈工大全媒体报道：“世界光子大会公布首届“金燧奖”中国光电仪器品牌榜获奖名单，我校仪器学院胡鹏程教授团队研制的“高速超精密激光干涉仪”荣获金奖”。

据报道，哈工大成功研制出了高速超精密激光干涉仪，目前可用于350nm到28nm工艺的光刻机样机集成研制和性能测试，这意味着我们离光刻机又近了一步。

据悉，在学校青年科学家工作室支持下，谭久彬院士指导的胡鹏程教授团队突破系列核心测量方法和工程化关键技术，解决了该领域存在的测不准、测不精、测不快的核心难题，共获授权发明专利113项（其中国际专利6项），制定相关标准2项，出版学术著作2部。

激光干涉位移测量技术是几何量精密测量最高水准的典型代表，精度达到亚纳米甚至皮米量级，在大科学工程如引力波探测、系外生命探测、先进重力场测量等重大科学领域，以及在超精密加工如晶圆光刻机、精密数控机床等基础工业领域都有广泛应用。

尤其是光刻机等高端装备中，超精密高速激光干涉仪是核心单元之一，它是实现极限工作精度和工作效率的必要条件。在该领域，美国公司具备很强的实力，处于垄断地位。并且受限于禁令，我国无法从国外进口这些关键设备。所以，这类仪器如果不取得技术突破，将会严重制约我国光刻机的发展。

大家都知道，美国持续在半导体领域对我国施压，拉拢世界各国意图进一步封锁对华的半导体供应链，所以在各个关键领域，都需要我们能尽早的取得突破，其中高端光刻机是呼声最高的。

但是高端光刻机集成了当下最先进的各领域科技，每一个环节几乎都像一个技术高峰，需要攻克。那么哈工大针对我国光刻机等高端装备研发的迫切需求，在高精度激光稳频、光学非线性误差精准抑制、高速高分辨力干涉信号处理等关键技术方面，投入了巨大的研发力量，也取得了持续突破，研制出系列超精密高速激光干涉仪。

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