台积电正研究如何降低3nm制程技术的成本

点击下方"国际电子商情"关注公众号业内人士爆料称台积电可能会降低 N3 或 3nm 级晶圆厂工艺系列芯片的价格，以增加其他公司的采用率，例如科技巨头 AMD、NVIDIA、联发科和高通，此举将有助于台积电获得除苹果以外更多的客户。据EDN电子技术设计了解，业内人士爆料称台积电可能会降低 N3 或 3nm 级晶圆厂工艺系列芯片的价格，以增加其他公司的采用率，例如科技巨头 AMD、NVIDIA、联发科和高通，此举将有助于台积电获得除苹果以外更多的客户。

传台积电正在研究降低3nm制程技术的成本

台积电现在面临的困难是新N3技术的制造成本过高，据悉，N3 在 25 层内使用 EUV（极紫外）光刻，根据配置，EUV 扫描仪的成本可能在 1.5 亿至 2 亿美元之间。而 3nm 技术的代工价格每片晶圆超过 20,000美元。AMD 此前曾提到该公司打算将 3nm 工艺用于 Zen 5 微架构，但这最早要到 2024 年下半年才会发生，而 NVIDIA 的目标是在其未来基于 Blackwell 的处理器中使用 N3 技术显卡。台积电 CEO 刘德银表示，3nm 制程的逻辑密度将提升至 60%，而在相同速度下，功耗水平可降低多达 35%。台积电的N3 工艺节点之一 N3E 目前仅在 19 层中使用 EUV 光刻。这降低了制造的开销，因为生产不那么复杂，并且导致成本低于其他工艺节点，例如 N3P、N3S 和 N3X 工艺。由于制造不那么密集，因此降低采购价格的风险也较小。而且，与 N5 工艺技术相比，在 SRAM 单元缩放方面没有明显优势，因此 N3 和 N3B 工艺技术都会增加芯片管芯的尺寸。

NVIDIA 很可能将 3nm 用于其下一代Blackwell GPU 架构，而 AMD 将其用于下一代Zen 5 和 RDNA 4 核心 IP。END

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