【美禁令冲击】应材、科林重伤 为何ASML无感？

对于已经导入DUV系统量产成熟制程的中芯国际与华虹半导体以及供应商ASML而言，DUV输中禁令的杀伤力不容小觑。ASML

美国商务部于10月7日祭出输中禁令后，全球五大半导体设备厂首当其冲，但这五大设备商受创却不同调，究竟缘何故？

应用材料(Applied Materials)近期率先示警8~10月当季与11~1月下一季，均分别减少4亿美元进帐，随后科林研发(Lam Research)也下修2023年业绩展望，预计减少20亿~25亿美元营收。

尽管科磊(KLA)、东京威力科创(TEL)尚未提出具体受冲击业绩，但荷兰微影设备大厂ASML日前却表态，预计美国出口管制对该厂业绩「影响相当有限」，同时也不影响2023年出货展望。

美出口禁令「现阶段」对ASML冲击有限

据彭博(Bloomberg)、Seeking Alpha报导，科林研发财务长Doug Bettinger表示，美方禁令一出，该厂人员已撤出长江存储等厂，预计10~12月营收仅介于48亿~54亿美元区间，已受到禁令冲击发酵；但ASML却在法说会上宣告，10~12月营收可望优于分析师预期，交出亮眼成绩单。

诚然，ASML对外官方说法，其产品仅涵盖有限的美国技术，目前受到影响有限。不过，美方目前输中设备禁令仅及于美系供应商，对于日系、欧系等设备厂还需透过盟国政府间协调，才能达到预期围堵国内的目标。

各厂财报数据显示，在ASML、应材、TEL与科林研发之间，逻辑芯片业者对ASML营收贡献度高达7成，其次为应材的6成，相对地，科林研发与TEL反而来自存储器芯片业者营收贡献度，分别高达6成与5成。

再者，检视ASML客户组成，有监于先进制程EUV曝光机台采购仍以台积电、英特尔(Intel)、三星电子(Samsung Electronics)为最大宗，其次包括三星存储器(Samsung Memory)与SK海力士(SK Hynix)、美光(Micron)陆续采购EUV机台导入次时代DRAM量产，也让ASML扩产不及因应需求。

美断供国内厂商DUV机台沙盘推演中？

尽管拜登政府箝制国内18纳米DRAM与128层3D NAND设备输中，也禁止14纳米以下逻辑芯片设备出口国内，但量产NAND无须采用EUV设备，至于14纳米FinFET制程与18纳米DRAM量产，也用不到EUV系统，在美方祭出DUV曝光机台禁售国内以前，现阶段美国禁令对于ASML的业绩，的确「影响有限」。

不过，即使美国新规并未阻止ASML向国内业者提供DUV设备，但下一波限制是否已在沙盘推演、断供国内厂商DUV机台呢？对于已经导入DUV系统量产成熟制程的中芯国际与华虹半导体以及供应商ASML而言，DUV输中禁令的杀伤力不容小觑。

2021年3月拜登上台后，由Google前执行董事长Eric Schmidt领衔的美国人工智能国家安全委员会(NSCAI)提出建言，要让国内半导体制造商落后美国同业至少2个时代的目标，NSCAI建议美国商务部阻止国内业者在16纳米以下制程的发展。

美国「终极七伤拳」还未出手

此外，NSCAI报告的第231页明确提示，有监于EUV系统以及DUV系统相关的氟化氩浸润式微影设备(ArF immersion lithography tools)，攸关半导体业者推进7纳米甚或5纳米等先进制程的关键，故建议美国政府应将浸润式微影设备等DUV系统，也列入对国内厂商出口管制。

如今，在NSCAI报告提出后18个月，拜登政府出手箝制国内业者在16/14纳米以下制程，那么，DUV禁令是否也已箭在弦上呢？

据研究机构The Information Network报告显示，氟化氩浸润式扫描机(ArF immersion scanners)可应用在7纳米到38纳米节点线宽的曝光应用上，其中又以改良式机种能够导入7纳米制程曝光，为DUV系统中最先进机种。此外，干式氟化氩系统(dry ArF systems)，可支持65纳米等成熟制程曝光所需。

一旦美国政府出手DUV禁令，影响所及从12纳米到65纳米制程，不仅需要日荷盟国配合，也须视哪些机种遭禁。由于影响深远，恐将让设备商业绩再遭重挫，拜登政府假使这一招七伤拳出手，不仅实际执行面难度高，对于迈入下行周期的半导体业者，更是雪上加霜。

责任编辑：陈奭璁