EUV设备运入英特尔爱尔兰厂 成欧洲史上首例

在经过18个月的设计与建造准备後，英特尔(Intel)位於爱尔兰莱克斯利普(Leixlip)的Fab 34晶圆厂，已经开始首台ASML制造的极紫外光(EUV)微影系统的安装流程，未来将以Intel 4(等於7纳米)制程技术，成为欧洲土地上首座利用新一代微影技术量产芯片的先进晶圆厂。

综合eeNews Europe与Bits & Chips报导，这套EUV系统是从英特尔位在美国奥勒冈州的技术开发工厂送出，包含10万个组件、3,000条线缆、4万个螺栓与超过1英里的软管管线，占了从地下室起算共4层楼的空间，还包含附属厂房的部分。英特尔表示，未来几年Fab 34还会继续安装更多的EUV设备。而Intel 4也是英特尔首个导入EUV曝光程序的新制程。

除了Fab 34以外，欧洲唯一一台ASML EUV设备设在比利时微电子研究中心(IMEC)，但并非商用，而是投入芯片与制程技术等领域的研发。至於英特尔将在德国马格德堡(Magdeburg)新建的巨型晶圆厂，预计於2027年投产，届时应该会导入更先进的高数值孔径(high-NA)系统。

责任编辑：朱原弘