真假？力晶董事长：中芯客户正寻找第二供应商

我国晶圆代工龙头中芯国际近年在中美科技战之下沦为第一线遭到冲击的企业，先是先进制程所需的极紫外光(EUV)光刻设备进口遭到美国政府阻断，甚至遭列美国贸易黑名单，导致与美企的业务往来遭到大幅限制。

中芯国际副总裁彭进日前指出，在源源不断的订单需求下，受美国禁令影响，让半导体生产设备出口审批周期延长及设备交期本身也延长的影响，中芯扩产的进度依然没有满足客户的产能需求。彭进表示，今年中芯8吋晶圆产能扩产4.5万片，较原先预期少35%，12吋扩产1万片，比计划少了1万片，对中芯、客户和整机厂都带来了较大的影响，目前看来成熟制程扩产还需要3~6个月时间，2022年、2023年扩产水准会持续超过今年规模。

中芯2021年3月宣布，与ASML签约的12亿美元DUV光刻设备订单，期限到2021年底。ASML全球副总裁、中国区总裁沈波今年11月指出，对大陆出口光刻机维持开放态度，并在合乎法律框架下全力支持，除了EUV机台，其他产品都可以向大陆客户出货。ASML近年出货到中国大陆市场占全球销量3成，目前在中国大陆装机量接近1000台。

至于日前再度传出，连中芯成熟制程所需的DUV机台也将被美国政府禁止出口，虽然最终在美国商务部提出质疑，认为这也会伤害美企利益下暂时搁置，但随着当时订单期限只剩下5天，中芯能否顺利得到DUV机台也备受外界关注。若中芯国际无法取得DUV机台，于北京新建用以28nm制程、12吋晶圆厂，以及日前宣布在上海、深圳的110亿美元扩产计划，预计2023年开出的产能将面临困境。

力积电董事长黄崇仁先前在公开采访中表示，确实有看到中芯客户寻找第二供应商，虽然中国大陆努力建立半导体自主供应链，但与美国抗衡难度相当高。

DUV机台虽然主要拿来使用在成熟制程芯片，但包括台积电、三星电子，也能拿来生产10nm以下制程芯片。其中，台积电在生产第一代7nm制程(N7)，透过DUV的193nm浸润式ArF光刻生产。使用DUV光刻机透过液体浸润多重曝光后虽能缩小线距，但要做到与EUV的13.5nm波长等效，也就是达到台积电7nm制程的良率与成本，恐怕还有一大段距离，一旦DUV机台也遭到美国政府阻断，后果严重。在美国设备的出口被卡得很死的情况下，国产设备顶上来还要时间，半导体的国产化委实任重道远！