三星与韩国厂商东进半导体合作开发成功EUV光刻胶！

韩国光刻胶供应商东进半导体(Dongjin Semichem)12月19日宣布，近期已通过了三星电子的EUV PR（光刻胶）可靠性测试（合格）。三星方表示，这款光刻胶为双方合作研发，它打破韩国EUV光刻胶完全依赖海外供应商的局面，最快有望明年上半年向产线批量供应。

业内人士表示，东进半导体在其位于京畿道的华城工厂开发了EUV光刻胶，并在三星电子的华城EUV生产线进行了测试，最终获得了资格。两家公司的合作，使得EUV光刻胶能够以高技术水平快速开发。

据了解，光刻胶应用于芯片上，当用半导体曝光设备照射光时，会发生化学反应并改变物理性质，通过用显影剂冲洗掉PR来绘制微电路，只留下必要的部分。虽然KrF和ArF氟化物工艺的光刻胶在韩国已经大量生产，但没有能够绘制更精细电路的EUV光刻胶。这是因为开发非常困难，韩国国内使用的EUV光刻胶大部分是从日本进口的。

据悉，2019年日本出台出口限制措施后，东进半导体开始利用自己的基础设施，如现有的氟化氩曝光机和比利时半导体研究所（IMEC）的EUV设备，将EUV光刻胶本土化。同时，三星提供了EUV测试环境并且成功提高了光刻胶质量，使其能够被成功应用。

虽然已经通过了测试，不过三星是否会在EUV生产线上立即使用东进半导体的EUV光刻胶还不确定，三星及东进拒绝进一步表态。

来源：集邦半导体咨询