LGD｜联手设备厂商评估将OLED蒸镀方式从CVD变更为ALD工艺

CINNO Research产业资讯，LG显示（以下LGD）积极加强中小尺寸OLED，目前正在推进主制程变更，以实现产品提升。
根据韩媒ddaily报道，LGD联手设备供应商Jusung Engineering正评估TFT蒸镀方式的变更。
OLED TFT是控制由有机物组成的红、绿、蓝(RGB)像素，起到调节光亮度的电开关。TFT是通过反复清洗、蒸镀、PR涂布、显影、蚀刻、PR剥离等制程制作。通俗来讲，就是在玻璃或塑料的基板上堆积薄膜，在薄膜上画出电路图案后蚀刻完成TFT。

此前，薄膜蒸镀主要使用化学气象沉积(CVD)工艺。CVD是通过化学反应在基板上形成薄膜的方式。CVD有很多种，其中利用plasma的PECVD使用最广。
但CVD的缺点是蒸镀膜均一度的薄膜涂布性较低，是TFT变薄和性能提升的绊脚石。作为替代方案衍生出的就是ALD工艺。 ALD是将原料和反应气体交叉注入，形成薄膜的方式。原料和气体反应形成原子单位薄膜，可以实现厚度调节。且优秀的吸附力等也是优点之一。
但ALD也并非无缺点。与CVD相比费用更高，制程时间更长，使得生产效率低下。ALD虽在半导体领域实现商用已久，但工艺水平相对较低的显示领域并无广泛使用。
而据悉，最近LGD正在考虑用ALD代替CVD的方式。LGD认为，如果将薄膜变薄，减少制程数，就可以抵消制程时间变长的问题。且ALD在结构上比CVD坚固且制程温度更低，可以将塑料基板的损伤最小化。
LGD正在与供应TFT蒸镀设备的Jusung Engineering共同进行相关开发。CVD和ALD混搭方式也是评估对象。就是在蒸镀制程中交替使用CVD和ALD。
显示业界评论:“如果在生产TFT时使用ALD，薄膜杂质就会减少，厚度也会稳定，可以绘出更加精密的电路pattern。这会直接使TFT性能提升。LGD进入苹果供应链后，POLED事业呈现增长趋势，因此才会积极摸索多样化方案”。
LGD同步在准备将中小尺寸OLED从6代(1500mm×1850mm)扩大到8代(2200㎜×2500㎜)。这是继智能手机之后，平板电脑等OLED应用增加后的影响。供应POLED有机物蒸镀设备的Sunic system已着手开发8代设备。

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