ASML和Zeiss分别与Canon签订协议 交换光刻设备专利使用权
来源:大半导体产业网 发布时间:2007-12-25
分享至微信

据EE Times网站报道,光刻设备专业制造商荷兰ASML Holding NV和德国Carl Zeiss SMT日前均与Canon Inc.签订协议,向其提供光刻技术和光元件制造方面的专利使用权。
此次协议未涉及技术转让,这意味着ASML和Zeiss仍将参与市场竞争。
这三家公司均表示,此次交换专利使用权有助于在和客户相关的领域中提高竞争自由度。协议生效后,意味着三家公司可以使用另两家公司的专利开发新品。
相关链接(英文):
http://www.eetimes.com/rss/showArticle.jhtml?articleID=205200218&cid=RSSfeed_eetimes_newsRSS
[ 新闻来源:大半导体产业网,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论
暂无评论哦,快来评论一下吧!

大半导体产业网
开创IC领域,共创美好未来!
查看更多
相关文章
Canon Anelva新型成膜设备Adastra预计2025年投入评估
2025-06-16
天赐材料与楚能新能源签订55万吨电解液供应协议
2025-07-16
美国加征关税,或致ASML光刻机成本上涨
2025-07-17
ASML研发5纳米分辨率Hyper NA光刻机
2025-06-30
热门搜索
三星电子Q2财报不佳
英伟达800V电源架构新增中国供应商
艾睿电子Q2营收迎来正增长
华为
台积电
中芯国际
联发科
高通
英特尔