美欧日韩芯片联盟近日出现裂缝，EUV光刻机时代或将迎来变革。荷兰ASML作为全球光刻机霸主，其EUV光刻机市场垄断地位一度稳固，但近期美国存储芯片巨头美光却宣布将采用佳能的NIL纳米压印设备用于DRAM生产，意味着可能逐渐抛弃EUV光刻机。

NIL设备成本较EUV光刻机低40%左右，但生产效率相对较低。此前SK海力士已尝试使用NIL设备制造存储芯片，美光的决定或将加速EUV光刻机替代品的推广。一旦EUV光刻机垄断地位动摇，全球半导体产业链格局将面临重大变革，美国芯片霸权也将受到挑战。

此次美光采用NIL设备的决定，不仅可能改变存储芯片制造方式，更可能引发全球芯片产业链的重构。未来，随着技术的不断进步和成本的持续优化，EUV光刻机时代或将逐渐过去，新的芯片制造方式将崭露头角。