清溢光电实现180nm工艺节点芯片掩膜版量产
来源:ictimes 发布时间:2024-01-18 分享至微信

深圳清溢光电股份于1月16日发布了投资者关系活动记录表,详细介绍了该公司在2024年1月11日接受41家机构调研的情况。这次的机构调研涵盖了保险公司、其他机构、基金公司、证券公司以及阳光私募机构等多个领域。


清溢光电成立于1997年8月,是国内掩膜版行业的开创者之一。主要从事掩膜版的研发、设计、生产和销售业务,产品应用领域包括平板显示、半导体芯片、触控、电路板等。公司一直在行业标准制定、国产化及产业链完善等方面发挥着重要作用,多次荣获权威机构的认可和奖项。


公司最新创新成果是在半导体掩膜版领域取得的。通过20多年的行业经验,公司成功实现了180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产,并在150nm工艺节点获得了客户测试认证。未来计划推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发,以及28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。


面对第三代半导体的机遇,公司通过与多家国际一流企业的合作,拥有丰富的客户资源。公司制定了“平板显示掩膜版+半导体芯片掩膜版”互促共进的“双翼”战略,旨在成为全球范围内掩膜版行业的领先者。公司力争扩大产能、提升产品精度和品质,以满足全球对掩膜版的不断增长的需求。


清溢光电凭借20多年的行业积累,通过技术创新和深耕市场,成功突破了半导体掩膜版的制程节点,展现了强大的技术实力。公司在新兴领域的布局以及与行业一流企业的紧密合作,为未来的增长奠定了坚实基础。这一创新助力清溢光电走向更广阔的智能时代。


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