ASML出货新光刻机NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工艺

据外媒报道，光刻机霸主ASML（阿斯麦）已经开始出货新品Twinscan NXT：2000i DUV（NXT：2000i双工件台深紫外光刻机），可用于7nm和5nm节点。

NXT：2000i将是NXE：3400B EUV光刻机的有效补充，毕竟台积电／GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。

同时，NXT：2000i也成为了ASML旗下套刻精度（overlay）最高的产品，达到了和3400B一样的1．9nm（5nm要求至少2．4nm，7nm要求至少3．5nm）。

ASML将于本季度末开始量产Twinscan NXT：2000i，价格未披露。目前，NXE：3400B EUV光刻机的报价是1．2亿美元一台，传统的ArF沉浸式光刻机（14nm节点）报价是7200万美元之间， NXT：2000i肯定是在这两者之间了。

最后简单介绍下ASML公司，其脱胎于荷兰飞利浦的光刻研发小组，2017年全球光刻机市场占比7成，是绝对的一哥，后面跟着的是佳能、尼康和上海微电子。

集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，其中以光刻工序最为关键，它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标，即在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。（上刻出晶体管器件的结构和晶体管之间的连接通路。）

图为NXE：3300 EUV光刻机