三星成功流片全球第一颗20nm工艺试验芯片

    三星电子今天宣布，已经成功实现了20nm工艺试验芯片的流片，这也是迄今为止业内最先进的半导体制造工艺。

    三星电子此番利用了美国加州电子设计自动化企业Cadence Design Systems提供的一体化数字流程RTL-to-GDSII。这套基于Encounter的流程和方法完全能够满足三星20nm试验芯片从IP集成到设计验证的复杂需求，包括Encounter数字部署系统、Encounter RTL编译器、Incisive企业模拟器、Encounter电源系统、QRC Extraction提取工具、Encounter计时系统、Encounter测试与物理验证系统、Encounter NanoRoute路由等等。