又一光刻机技术获得突破，清华大学宣布结果，国产芯片正在超车

芯片—人类智慧皇冠上的明珠！华为、苹果、高通虽然都是芯片领域的头部企业，然而却仅负责设计，想要将PPT变为成品，就需要用到光刻机，这是芯片制造过程中最为核心的设备，相当于驱动科技快速前进的发动机。然而在EUV光刻机领域，全球仅有这么一家企业，这就是曾经一度反超日本光刻机巨头佳能和尼康的荷兰ASML。

国内迎来“造芯潮”

然而由于ASML身后有许多美国大财团，这让美国在芯片制造领域形成了全球垄断，中美科技竞争的不断升级，让华为、中芯国际等国产芯片企业受到了西方“不公平”的待遇，也是在这种背景下，我国针对芯片产业链推出了免税优惠等政策，全面推动国产芯片的快速发展，并计划在2025年将国产芯片自给率提升到70%，于是，国内掀起了一股“造芯潮”！

为解决光刻机被卡脖子的问题，中科院提升了国产光刻机的研发优先级，旨在加速解决高端芯片制造产业链；另外，国内一些企业也与日本光刻机巨头尼康达成了合作，希望注资能激活尼康曾经的辉煌，从而加速我国芯片产业链的快速发展。

清华大学核心技术获突破

当中科院、国内企业正在加速芯片“国产化”的同时，国内芯片领域传来了好消息，清华大学团队宣布，研发出了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（SSMB），并且成功完成了首个原理实验，报告也已刊登在了世界科学《自然》杂志上。

众所周知，如果光刻机犹如一位“雕刻大师”，那么光源就是“雕刻大师”手中的一把“雕刻刀”。ASML极紫外光刻机所采用的光源波长为13.5nm，功能功率为250瓦，但随着芯片工艺越来越复杂，光刻机对EUV光源波长和功率要求越来越高，也就是说，只要能找到功率更大，波长更短的光源，就能突破更高端芯片的制造问题。

而清华大学团队技术攻关4年所研发出的加速光源，可获得高功率、高重频率、窄带宽的相干辐射，波长可以从太赫兹覆盖到EUV波段。可以说光刻机最为核心的技术已经实现了突破，接下来就是不断地进行科技攻关，与上下游产业链配合，而一旦投入到实际应用中，这将大大提升国产EUV光刻机的自研步伐，不难看出，中国芯也正在“超车”！

比尔盖茨可能真的说对了

其实微软创始人比尔盖茨早就提到，西方对中国芯片的技术封锁，不仅会让中国摆脱对西方技术的依赖，实现芯片自给自足，同时还会给美国半导体行业带来严重影响，让一些美国人失去高薪工作，而我国碳基芯片、粒子加速器光源等技术的突破，不就是最好的证明吗？

相信经过我们在芯片领域的不断创新和努力，技术封锁只是我们前进路上的一颗绊脚石，属于中国的星辰大海，已经来临！