集成电路布图设计专有权公告（2014年12月26日）

　　日前，国家知识产权局发布了最新集成电路布图设计专有权公告(2014年12月26日)，以下是公告详情。

　　布图设计登记号：BS.145501787

　　布图设计申请日：2014年9月22日

　　公告日期：2014年12月26日

　　公告号：9904

　　布图设计名称：集成电阻电容的电池保护芯片

　　布图设计类别：

　　结构：Bi-MOS

　　技术：CMOS

　　功能：线性

　　布图设计权利人：无锡中星微电子有限公司

　　布图设计权利人国籍：中国

　　布图设计权利人地址：江苏省无锡市新区太湖国际科技园清嘉路530大厦十层

　　布图设计创作人：郑重、祝佳琪、石璇宇、徐琴、王钊

　　代理机构：北京亿腾知识产权代理事务所

　　代理人:陈霁

　　布图设计创作完成日:2013年8月5日

　　布图设计首次商业利用日:2013年10月8日

　　布图设计登记号：BS.145005402

　　布图设计申请日：2014年5月30日

　　公告日期：2014年12月26日

　　公告号：9905

　　布图设计名称：PT4208

　　布图设计类别：

　　结构：MOS

　　技术：其他

　　功能：其他

　　布图设计权利人：华润矽威科技（上海）有限公司

　　布图设计权利人国籍：中国

　　布图设计权利人地址：上海市闵行区紫秀路100号1号楼10楼

　　布图设计创作人：许林海、苏崇高、田荣华、闾建晶、徐勇、林昌全、胡津华、陆路

　　布图设计创作完成日:2013年9月11日

　　布图设计登记号：BS.145005410

　　布图设计申请日：2014年5月30日

　　公告日期：2014年12月26日

　　公告号：9906

　　布图设计名称：PT2205

　　布图设计类别：

　　结构：MOS

　　技术：其他

　　功能：其他

　　布图设计权利人：华润矽威科技（上海）有限公司

　　布图设计权利人国籍：中国

　　布图设计权利人地址：上海市闵行区紫秀路100号1号楼10楼

　　布图设计创作人：刘艳红、闾建晶、许林海、苏崇高、尤勇、吴传奎、吴泉清

　　布图设计创作完成日:2013年9月12日

　　布图设计登记号：BS.145005429

　　布图设计申请日：2014年5月30日

　　公告日期：2014年12月26日

　　公告号：9907

　　布图设计名称：PT6161

　　布图设计类别：

　　结构：MOS

　　技术：其他

　　功能：线性

　　布图设计权利人：华润矽威科技（上海）有限公司

　　布图设计权利人国籍：中国

　　布图设计权利人地址：上海市闵行区紫秀路100号1号楼10楼

　　布图设计创作人：任会远、许林海、苏崇高、沈吉、罗丙寅、尤勇、覃超、陈华吉

　　布图设计创作完成日:2014年2月24日