国产芯片一悲一喜！武汉弘芯项目烂尾，清华大学攻克难题

芯片国产化浪潮之下，国内的半导体行业在光刻机研发制造方面，不断有好消息传来。

2月25日，清华大学工程物理系的唐传祥研究组与合作团队，在《自然》杂志发表了最新的实验成果，该实验论证了SSMB原理的可行性，而SSMB可以制造更高功率的EUV光源，这有望解决我国自研光刻机中的核心难题。

根据唐传祥的说法，高端光刻机需要波长短、功率大的EUV光源，而基于SSMB原理的EUV光源便具有实现更大平均功率和更短波长的潜力。对于国产自研的EUV光刻机而言，该团队无疑为EUV光源的突破提供了一种全新的思路。

不过，理论上的突破还不足以支撑EUV光刻机的完全自主国产化。唐传祥也指出，对于SSMBEUV光源的研究还需要继续，该技术真正的国产化和量产化更是离不开产业链上下游的协作。

光刻机是芯片制造过程中最为核心的精密设备，而高端光刻机的研发技术一直被国外厂商垄断，我国的自主研发之路一直面临诸多困境。在这样的背景下，唐传祥研究组的实验成果无疑给了国人极大的信心。

正当清华大学研究团队为光刻机的国产化带来希望之时，曾经的明星项目武汉弘芯宣布解散的消息也传来，一喜一悲的两件事碰撞在一起，无疑带给业界更多启发。

2017年，投资超千亿的弘芯半导体成立，主攻14nm工艺以及先进晶圆封装技术。在CEO蒋尚义的牵线之下，武汉弘芯在2019年获得了关键设备——荷兰ASML公司的光刻机。

在彼时媒体的报道中，武汉弘芯是国内唯一拥有EUV光刻机的半导体公司，一时间风光无限。然而，这种风光也仅维持了一个月。在获得光刻机一个月之后，武汉弘芯便因为运营不善、得不到持续输血而将光刻机抵押，此后更是资金链断裂、项目停滞。

其实，武汉弘芯并不是业界第一个千亿烂尾项目。虽然芯片国产化的热潮催生了众多企业入局半导体行业，但因为盲目投资、规划不足、缺少经验而烂尾停滞的项目不在少数，这造成了大量的资源浪费。

正如业界分析人士所说，“心浮气躁者不可造芯”。芯片作为国家科技实力、核心竞争力的主要象征之一，只有兢兢业业的钻研，才能实现根本性突破，否则就只能如武汉弘芯一般，留下一地鸡毛。

文/禹汐