ASML光刻机入厂！这家企业盘中大涨13%

近日，两家国内光刻胶企业陆续宣布引进ASML光刻机的最新进展，引发行业关注。来源：晶瑞股份官方微信公众号1月20日，苏州晶瑞化学股份有限公司（以下简称“晶瑞股份”）在其官方微信公众号分享了其新购的ASML XT 1900Gi型光刻机盛大的入厂仪式。据了解，该设备于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。

下一步，晶瑞股份将积极组织相关资源，尽快完成设备的安装调试工作。受光刻机入厂消息鼓舞，晶瑞股份盘中一度涨超13%。同为光刻胶供应商的上海新阳也在1月5日的公告中透露：公司此前采购用于193nm ArF干法光刻胶项目研发的ASML-1400光刻机预计今年3月底前进入合作方现场。重金引入光刻机，研发ArF光刻胶光刻机此前更广为人知功能是用于晶圆代工，但实际上，在半导体材料研发测试中，光刻机也是不可缺席的一员，因而其购买、运输、安装过程也备受关注。晶瑞股份董秘陈万鹏对媒体表示：“公司（购入ASML XT 1900Gi型光刻机）主要用来测试正在研发的ArF光刻胶，在这个领域我们国家还是空白，光刻机将很大程度加快公司的研发进程。同时公司未来准备以这台光刻机为核心设备，打造一个半导体材料的综合研发平台。”

据悉，ASML XT 1900Gi型光刻机为十年前的产品，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶，本是中国引入的第一批浸没式光刻机，一手买家为无锡SK海力士，之后由于SK海力士工厂起火，更换了制程，这些设备又被运到韩国。现在，晶瑞股份购得的这台光刻机为其中一台。在更早的三个月前，晶瑞股份也曾在公告中透露了该光刻机的交易价格：拟通过代理商进口韩国芯片厂商SK海力士的一台ASML 的光刻机，总价1102.5万美元。以十年“机龄”的二手ASML 的光刻机的要价来看，上文中提及的上海新阳公告中引入用于193nm ArF干法光刻胶项目研发的光刻机，要价估计不菲。更早在光刻机上有所投入的宁波南大光电已经宣布在光刻胶上取得重大进展。宁波南大光电于2020年4月购买，8月完成安装的光刻机也是ASML的1900型号浸没式光刻机，主要用于ArF光刻胶项目研发。

2020年12月17日，南大光电公告显示，控股子公司宁波南大光电材料有限公司（简称“宁波南大光电”）自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。本次产品的认证通过，标志着“ArF 光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破。多重因素影响，国产光刻胶迎发展良机国内半导体材料企业重金引进光刻机的背后，是国产ArF光刻胶在市场上备受追捧。据悉，ArF光刻胶是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于 90nm-14nm，甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片、 AI 芯片、5G 芯片、大容量存储器和云计算芯片等）。与高端芯片领域类似，光刻胶行业具有极高的行业壁垒，因此在全球范围其行业都呈现寡头垄断的局面。光刻胶行业长年被日本和美国专业公司垄断。

目前前五大厂商就占据了全球光刻胶市场 87%的份额，行业集中度高。其中，日本 JSR、东京应化、日本信越与富士电子材料市占率加和达到 72%。并且高分辨率的 KrF 和 ArF 半导体光刻胶核心技术亦基本被日本和美国企业所垄断，产品绝大多数出自日本和美国公司，如杜邦、JSR 株式会社、信越化学、东京应化工业、Fujifilm，以及韩国东进等企业。整个光刻胶市场格局来看，日本是光刻胶行业的巨头聚集地，中国光刻胶企业在市场份额中长期被合并列入“其他”来说，并无明显优势。

但2020年，在多重因素的影响下，国产光刻胶发展有了不一样的发展趋势：1、疫情导致日本“封城”，放大光刻胶供需矛盾。2020年初，新冠疫情开始影响材料大国日本的进出口贸易，光刻胶有“断链”危机。而另一方面，国内疫情控制效果明显，各个晶圆厂已经进入全面复工复产期，需求端全面复苏。国内晶圆厂的光刻胶供需矛盾突出，国产光刻胶迎来发展窗口；2、外部环境多变，半导体材料迎来重大政策利好。持续一年多的日韩贸易摩擦启示中国在中美贸易摩擦下急需半导体光刻胶自主可控，为鼓励光刻胶产业发展、突破产业瓶颈，我国出台了多项政策支持半导体行业发展，为光刻胶产业的发展提供了良好的环境氛围。2020 年 3 月 3 日，国家科技部等五部委发布《加强“从 0 到 1”基础研究工作方案》。方 案指出国家科技计划突出支持关键核心技术中的重大科学问题。面向国家重大需求，对关键核心技术中的重大科学问 题给予长期支持。重点支持人工智能、网络协同制造、3D 打印和激光制造、重点基础材料，先进电子材料、结构与功能材料、制造技术与关键部件、集成电路和微波器件，高端医疗器械、重大科学仪器设备等重大领域，推动关键核心技术突破。此外，业内人士指出，注册资本高达 2041.5 亿元的大基金二期的投资将向半导体产业链上游的设备和材料领域倾斜，也将加快国产光刻胶的发展。大基金二期的布局规划还提到将督促制造企业提高国产装备验 证及采购比例，为更多国产设备、材料提供工艺验证条件。3、中国晶圆厂产能剧增，光刻胶迎来新机会。近年来，中国大陆晶圆厂建设迎来高速增长期。从 2016 年开始，中国大陆开始积极投资建设晶圆厂，陆续掀起建厂热 潮，根据 SEMI 预测，2017-2020 年全球将建成投产 62 座晶圆厂，其中中国有 26 座，占总数的 42%。2018 年建造数量为 13 座，占到了扩产的 50%。扩产的结果势必导致晶圆厂的资本支出和设备支出的增加。据 SEMI 预计，到 2020 年，中国大陆晶圆厂装机产能达到每月 400 万片 8 寸等效晶圆，与 2015 年的 230 万比，年复合增长率为 12%，增长速度远远高过其他地区。另外，由于目前中国大多数 12 寸晶圆厂处于试量产或者小批量量产状态，处于产能底部。在得到客户的产品验证和市场验证之后，将会迎来产能爬坡阶段，将会对上游原材料出现巨大需求。

根据智研咨询预测，2022 年大陆半导体光刻胶市场空间将会接近 55 亿元，是 2019 年的两倍。广阔的市场空间为国产光刻胶企业也提供了巨大的发展空间。在种种利好因素下，光刻胶概念也被投资市场看好，据财联社统计，光刻胶也在A股市场上的十大热门板块中位列第四。在芯师爷此前针对A股半导体的一项统计中，2020年共计有16只半导体成分股涨幅超过100%，光刻胶企业雅克科技和南大光电占得两席。不过，尽管发展趋势被业内看好，国产光刻胶当前市场率低仍是不争的事实。

产业链人士指出，我国适用于 6 英寸硅片的 g 线和 i 线光刻胶的自给率约为 20%，适用于 8 英寸硅片的 KrF 光刻胶的自给率不足 5%，而适用于 12 寸硅片的 ArF 光刻胶则完全依靠进口。一大批国产光刻胶相关企业仍在努力中。国产光刻胶相关企业南大光电江苏南大光电材料股份有限公司是一家专业从事高纯电子材料研发、生产和销售的高新技术企业，公司成立于 2000 年 12 月，为全球 MO 源主要供应商之一。

作为全球 MO 源的主要供应商，产品在满足国内需求时，已远销日本、台湾，韩国、欧洲和美国。公司 2012 年 8 月 7 日在深圳证券交易所创业板成功上市，公司目前拥有 MO 源、电子特气、光刻胶三大业务板块。2017 年，南大光电承担了“02 专项”中对集成电路芯片制造用关键核心材料之一的 193nm ArF 光刻胶材料进行研发与产业化项目。2020年底，南大光电宣布该项目已取得了关键性的突破。雅克科技雅克科技股份有限公司是一家致力于工业材料，生产和销售的深交所中小板上市公司。雅克旗下设有“新材料”，“新能源”和“电子”事业部。在 2016 年，雅克科技先后收购了成都科美特和韩国 Up Chemical，间接参股韩国 COTEM 公司从而具备了 TFT 正性胶，半导体材料 SDO（旋涂绝缘介质），前驱体和氟化气体的业务能力，并将其归至“电子”事业部组织框架内。在 2017 年底，雅克科技获得大基金的战略入股支持。

2020 年 2 月 27 日，雅克科技子公司斯洋国际与LG 化学签署协议，购买 LG 化学下属的彩色光刻胶事业部的部分经营性资产，主要包括与彩色光刻胶业务相关的部分生产机器设备、存货、知识产权类无形资产、经营性应收账款等。上海新阳上海新阳产品广泛应用于集成电路制造、3D-IC 先进封装、IC 传统封测等领域，已成为多家集成电路制造公司 28nm技术节点的基准材料（Base Line）。作为中国半导体功能性化学材料和应用技术与服务的知名品牌，上海新阳已立项研发集成电路制造用高分辨率 193nm ArF 光刻胶与及配套材料与应用技术。以此为基础，公司在国内半导体功能性化学材料领域的领先地位将更加稳固。

上海新阳 193 光刻胶项目目前处于实验室研发阶段。晶瑞股份晶瑞股份专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售。其四大类微电子化学品（超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料和锂电池粘结剂）均为下游五大新兴行业（半导体、光伏太阳能电池、LED、平板显示和锂电池）的关键材料。经过多年研发和积累，晶瑞股份部分超净高纯试剂达到国际最高纯度等级（G5），打破了国外技术垄断，制定了多项行业标准；在国内率先实现目前集成电路芯片制造领域大量使用的核心光刻胶的量产，可以实现 0.35μm 的分辨率，在业内建立了较高技术声誉，“02 专项”光刻胶已部分供货。容大感光光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品。公司上市募投光刻胶及配套化学品项目，将新增产能 1,000 吨（光刻胶 700 吨、配套化学品 300 吨）的目标市场拟定位于国内平板显示、集成电路、分立器件、触摸屏等领域。目前容大感光的光刻胶产品包括 g/i 线正性光刻胶及配套的化学品。

在技术方面，公司已获得 4 项光刻胶方面的发明专利北京科华微电子北京科华微电子材料有限公司，是一家产品覆盖 KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂供应商与服务商。北京科华微电子是一家中美合资企业，成立于 2004 年，是一家产品覆盖 KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂供应商与服务商，也是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。公司是中芯国际、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电、德豪光电等行业顶尖客户的稳定合作伙伴。北京科华微电子研发技术力量雄厚，具备很强的光刻胶及原材料合成、配方及相关基础评价能力。

此外，北京科华微电子拥有中高档光刻胶生产基地北旭电子北京北旭电子材料有限公司（简称 BAE 公司）前身为京东方科技集团股份有限公司与日本旭硝子株式会社、丸红株式会社、共荣商事株式会社共同兴办的北京旭硝子电子玻璃有限公司，成立于 1994 年。2008 年京东方收购日方全部股份，BAE 成为京东方科技集团股份有限公司的全资子公司，同时更名为北京北旭电子玻璃有限公司。2014 年根据公司主营业务变化公司更名为北京北旭电子材料有限公司，是国内材料科学领域领先的科技创新型企业。

2019 年 8 月，北旭北旭计划在葛店投资 5 亿元，建设光刻胶生产基地。该生产基地将主要生产 TFT-LCD 用光刻胶、半导体用光刻胶、PI 液、有机绝缘膜等产品。江苏博砚江苏博砚电子科技有限公司成立于 2014 年 7 月，是一家集研发，生产 TFT-LCD 彩色滤光片用光刻胶的专业厂家。公司通过持续的技术创新，凭借自身雄厚的科研实力，突破本土制造的长期技术瓶颈，成功开发出系列光刻胶产品。目前，博砚电子的黑色光刻胶（BM）产品的已经完成了开发和中试工作，实现了稳定生产，并已通过石化联合会科技成果鉴定。

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