攻克“卡脖子”技术！中国企业与尼康和佳能共同开发光刻机

众所周知，光刻机是芯片制造中最最关键的设备，它占到所有芯片制造设备中20-30%的成本，而在芯片制作中，光刻机占用的制造时间，占到所有时间的30-40%。

但偏偏这么一项重要的设备，现在全球只有3个国家、4个主要厂商能够生产，一家是荷兰的ASML，一家是中国的上海微电子，还有2家是日本的尼康、佳能。

不过这四家厂商的水平也是参差不齐，相差很远。拿芯片工艺节点来说的话，ASML达到了5nm的芯片工艺，而尼康在28nm。之后再是佳能、上海微电子，目前还处在90nm，可以说是分成了三个梯队，每个梯队之间都是差距巨大，具体的差距如下图，大家一看就明白了。

现在芯片越来越重要，目前，全世界只有荷兰的ASML可以制造EUV光刻机。而大部分基础技术的知识产权都由美国把持，因此荷兰政府此前宣布不允许ASML向中国出口EUV设备。作为除美国之外最强的几大芯片强国，比如日本、韩国、中国当然不乐意了，所以一直想在光刻机领域崛起，不被ASML卡脖子。

不过，若是EUV以外的光刻机，日本的尼康和佳能也可以制造。业界有关人士表示：“中国企业拟向两家日本公司提供资金，要求共同开发除EUV以外的新型光刻机。”此外，中国政府也开始着手开发制造设备和设计软件。

据日经新闻指出，随着美国的封锁和打压，从长远来看，美国的封锁反而可能会助推中国半导体产业的自立与发展。报道以美国限制华为、中芯国际的供应链为例指出，尽管有美国政府的出口限制，但中国半导体产业仍可迂回以对。

而在这样的趋势和潮流之下，中国企业会与日本合作开发光刻机，毕竟中国有市场有一定的技术基础，而日本本来在光刻机领域就有积累，所以联合开发或许是一个非常好的选择。

当然，这个消息目前并不一定是真的，但如果是真的，也算是一个好消息了，毕竟确实中国的市场和技术基础，再加上日本的积累，打破ASML的垄断，也是有可能的。

中国有1000多家新兴的半导体相关公司，如果华为和中芯国际从这些公司购买进口的半导体芯片、设计软件以及生产设备，实际上就可以进行半导体采购并扩充制造设备。

对此，Synopsis共同执行长Aart de Geus表示，“在中国有很多半导体相关企业（除华为外）都在大量购买（设计软件）。”这种情况意味着无法避免中国国内的转售。

值得一提的是，去年11月，日本半导体巨头尔必达原社长坂本幸雄就职紫光集团的高级副总裁，引发业界热议。除了技术攻坚，中国目前也不惜重金吸引资深半导体产业人士。

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