直指ASML，美国瞄准对华DUV出口

据路透社报道，美国国会近期提出新法案，计划加码对中国大陆芯片制造设备的出口限制。
该法案名为《硬件技术控制多边协调法案》（MATCH），由美国两党议员联合提出，旨在进一步限制ASML向中国大陆出口深紫外光（DUV）浸润式光刻设备，并可能禁止相关维修服务。
若法案落地并得到荷兰政府执行，光刻机巨头ASML的营收或将出现个位数百分比的下滑。ASML虽技术领先，但在中国大陆市场已面临日本尼康与上海微电子的竞争压力。
新规主要针对先进制程设备，老旧机型暂不受影响。花旗分析师在报告中对该法案的通过前景持悲观态度，ASML目前不予置评，荷兰政府则表示不对美国国会提案发表评论。
分析认为，其他地区芯片厂商扩产可能为ASML带来增量收入，但难以完全抵消中国大陆市场的损失。同时，全球芯片产能紧张状况或将进一步加剧，影响整个半导体行业。

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