ASML研发新技术：2030年前芯片产量或提升50%

据《路透社》周一（23日）独家报道，ASML近日宣布已找到一种大幅提升关键芯片制造设备光源功率的新方法，预计到2030年可将芯片产量提高多达50%。

ASML是全球唯一能够制造极紫外光（EUV）光刻设备的公司，其设备是台积电、英特尔等晶圆制造商生产先进计算芯片的核心工具。该公司技术长Michael Purvis表示：“这并非噱头，也不是仅能维持极短时间的演示，而是一个能够稳定输出1000瓦功率的系统，同时满足客户的所有实际需求。”

研究人员指出，通过提升光源功率，EUV光刻设备的极紫外光源功率可提升至1000瓦。预计到2030年，每小时的晶圆产量将因此增加50%。这一技术突破将为芯片制造效率带来显著提升。