据富士软片（Fujifilm）消息，该公司近日宣布，位于日本静冈县吉田町的一座新研究大楼正式完工并投入使用。这座大楼是富士软片为满足AI相关半导体材料需求而投资建设的重要设施，主要用于先进半导体制程中光刻胶的研发和CMOS彩色滤片材料Wave Control Mosaix的改进。
新研究大楼位于富士软片子公司的静冈工厂内，与吉田南工厂、电子材料开发中心及影像通信开发中心同处一个厂区。该设施是富士软片开发EUV光刻胶等尖端材料的核心基地，总投资金额达130亿日圆（约合8,300万美元）。富士软片社长后藤祯一表示，静冈工厂将在实现2030年尖端光刻胶全球市场占有率20%、营收达到5,000亿日圆的目标中发挥关键作用。
尽管富士软片的EUV光刻胶在2024年才正式上市，较其他竞争对手如JSR稍晚，但凭借独特的技术路径，该产品已成功占据一定市场份额。这也成为富士软片2024财年（2024年4月~2025年3月）半导体事业营收达到2,504亿日圆的重要推动力之一。
