据韩媒《韩国经济》报道,三星电子与美国设备制造商科磊合作开发了一种纳米碳管(CNT)光罩护膜检测设备。这一设备不仅能显著降低检测成本,还有望取代昂贵的日本产品。
三星在2025年9月底于美国举办的“SPIE Photomask and EUV Lithography”研讨会上,详细介绍了与科磊的合作内容。三星表示,与现有EUV光罩检测方法相比,新设备可将检测成本降低约40%。
光罩护膜是一种覆盖在光罩表面的超薄透明膜,主要作用是防止灰尘和微粒附着,从而避免晶圆曝光时出现缺陷。而CNT光罩护膜采用网状多孔结构,具有优异的极紫外光(EUV)透射率,同时具备更高的柔性和延展性,能够有效降低因热应力或操作不当导致的破损风险。
值得一提的是,如果三星成功开发并应用自己的CNT光罩护膜检测设备,将减少对中国台湾地区和日本检测设备制造商Lasertec的依赖。这一进展也显示出三星在导入CNT光罩护膜技术方面的决心。