2026年7月29日，御微半导体自主研发的Raptor-600掩膜图形缺陷检测设备正式发往国内头部晶圆厂。该设备是国内首款能够完整覆盖90纳米至28纳米工艺节点的同类产品。此前在2025年初，覆盖90纳米及以上工艺的初代机型Raptor-500已交付并投入量产，随后Raptor系列产品在2026年SEMICON China展会上公开亮相。Raptor-600的推出，标志着该公司在掩膜图形缺陷检测领域实现了从成熟工艺到高端28纳米节点的全面覆盖。
在技术研发方面，Raptor-600基于量产机型Raptor-500的成熟架构，经过产线实际应用的迭代优化，完成了多项技术升级。该设备配备了自主研发的高分辨率透反射双光路紫外成像系统，能够同步捕捉影响掩膜及光刻成品率的各类缺陷。同时，设备搭载了纳米级高精度运动平台，确保检测定位达到微米级的稳定精度，并配套超大图像并行计算引擎，大幅提升了缺陷识别的速度与适配性。
掩膜版作为芯片光刻工艺的核心母版，其质量直接决定晶圆的生产成品率。微小的图形缺陷可能导致整批晶圆报废。针对28纳米及以上工艺的严格检测标准，Raptor-600能够为高端掩膜版提供可靠的质量检测保障。该设备能够分辨精细图形并规避辅助图形干扰，快速检测出图形缺损和表面污染物等问题，适用于掩膜制造厂和晶圆厂的全流程品质管控。
从项目立项到设备出厂，Raptor-600的研发周期为520天。在此期间，光电、机电、算法、软件及测试等多个部门紧密协作，完成了技术攻关与性能优化。公司管理层表示，该设备的发运填补了国内在90纳米至28纳米工艺节点高端掩膜图形缺陷检测设备的空白。
随着Raptor-600的交付，御微半导体进一步完善了掩膜检测产品线。目前，公司已围绕掩膜基板制造、掩膜版制造和晶圆制造三大核心场景，构建了Halo掩膜基板检测、i6R掩膜全景质量管理以及Raptor掩膜图形缺陷检测三大产品矩阵。多款设备已实现批量交付，为客户提供掩膜全生命周期的质量控制方案。
