据日经新闻（Nikkei）报道，日本高分子材料厂商JSR旗下的美国光阻剂企业Inpria与美国科林研发（Lam Research）之间的专利纠纷，于2025年9月16日达成非独占交互授权协议，为这场围绕EUV光阻剂技术的法律争端画上句号。双方将在此基础上展开合作，共同研发更先进的半导体制造材料。
EUV光刻技术自2018年实现商业化以来，相关材料市场迅速升温。科林研发的干式光阻剂Aether与Inpria的金属氧化物光阻剂技术，成为当时EUV光阻剂领域最受关注的两大创新方向。为确保技术优势，JSR于2021年收购Inpria，并在2022年向科林研发提起专利诉讼，以应对市场竞争。
根据JSR的财报数据，其半导体材料业务表现强劲，但生技领域的投资回报周期较长，导致公司陷入财务困境。为支持JSR的重建，日本政府主导的产业革新投资机构（JIC）于2024年4月以1万亿日圆（约合68亿美元）完成对JSR的并购，推动其下市重组。数据显示，JSR在2024年全球光阻剂市场中占据19.2%的份额，排名第二。
此次专利交互授权协议的达成，不仅为JSR扫清了发展障碍，还为其金属氧化物光阻剂及ALD成膜技术的研发注入新动力。这些技术目前占JSR数码材料事业营收的45%以上。JSR表示，未来将加大投资力度，进一步强化光阻剂的生产体制。
科林研发方面也宣布，其包括Aether在内的EUV、ALE、ALD等光阻剂相关技术将授权给Inpria，双方将共同推进次世代技术的研发，以提升客户服务能力。这一合作标志着两家公司在先进半导体材料领域的竞争与协作进入新阶段。
