俄罗斯成功研发350nm光刻机

据俄罗斯微信通讯社近日报道，俄罗斯成功研发了其首台350nm光刻机，这一设备是微芯片生产中的核心装置。莫斯科市长谢尔盖·索比亚宁在其“电报”频道上发文表示，莫斯科“泽列诺格勒纳米技术中心”公司已完成了这台光刻机的研发工作。他强调，全球能够制造光刻设备的厂商不足10家，俄罗斯的加入标志着该国在实现微电子产品自主生产和技术独立方面迈出了重要一步。

“泽列诺格勒纳米技术中心”公司总经理阿纳托利·科瓦列夫透露，该项目是与白俄罗斯“Planar”工厂合作完成的，并于2024年12月成功通过测试。目前，已有客户购买了这一设备。据介绍，这台光刻机首次采用了固体激光器作为辐射装置，这种技术具备功率高、能效强、耐用性好以及光谱更窄的优势。

此外，“泽列诺格勒纳米技术中心”公司表示，已准备好批量生产这款设备，同时正在按照第二份国家合同推进130nm光刻机的研发工作，预计将在2026年完成。