ASML展望未来：EUV光刻EUV光刻支出复合年增长率将达两位数

在2024年投资者日上，ASML Holding NV（ASML）向全球投资者揭示了半导体行业的未来趋势以及ASML的长期战略。

ASML总裁兼首席执行官Christophe Fouquet在会上表示：“我们预计将 EUV 技术扩展到未来十年，并扩展多功能的整体光刻产品组合，这将使 ASML 能够为人工智能 (AI) 做出贡献并利用人工智能 (AI) 机会，并使 ASML 实现可观的收入和盈利增长。”

ASML认为，在人工智能等新兴领域的推动下，半导体行业正迎来前所未有的发展机遇。ASML预计，这些新兴技术将推动全球半导体销售额在2030年突破1万亿美元大关，从而实现2025-2030年期间约9%的年增长率。

在ASML的战略布局中，EUV光刻技术无疑占据了核心地位。ASML认为，在未来几十年里，EUV技术的可扩展性将持续展现其成本效益，助力客户将多图案层进一步转移到单图案EUV 0.33 NA和EUV 0.55 NA，适用于高级逻辑和DRAM等领域。因此，ASML大胆预测，在2025年至2030年间，高级逻辑和DRAM的EUV光刻支出将实现两位数的复合年增长率。

ASML执行副总裁兼首席财务官Roger Dassen在会上进一步强调了ASML对未来市场需求的信心。他表示，随着半导体终端市场的预期增长和未来节点光刻支出的增加，ASML对其产品和服务的强劲需求充满信心。基于对不同市场和技术情景的评估，ASML预计到2030年，其年收入将达到440亿欧元至600亿欧元之间，毛利率将维持在56%至60%的高水平。