三星减少EUV设备引进，与ASML联合研究中心计划生变

三星电子近期通知ASML，将减少计划引进的下一代高NA EUV光刻设备数量，这一决定可能会对双方在首都地区建立的EUV联合研究中心造成影响。此前，韩国总统尹锡悦在访问荷兰时，三星电子与ASML签署了建立联合研究中心的谅解备忘录，作为韩荷半导体合作的一部分。

三星电子最初计划购买多台不同型号的下一代EUV设备，但现在决定仅引进EXE:5200型号，并可能在未来重新考虑引进其他版本。这一调整是在三星电子DS部门新任负责人全永铉审查项目和投资后作出的。

目前，由于设备引进计划的减少，联合研究中心的建设进程已暂停。知情人士透露，未来该中心是更换地点还是取消建设，将由双方进一步讨论决定。尽管合作计划有所调整，三星电子方面仍表示，引进ASML High NA EUV设备的计划保持不变，研发中心的建立也将继续。

三星电子与ASML的合作原被视为确保先进EUV设备供应的战略举措，对先进半导体生产至关重要。ASML作为全球唯一生产EUV光刻设备的公司，其与三星的合作对半导体行业具有重要影响。此次合作的缩减可能会影响韩国国内半导体生态系统及相关行业。

业内人士指出，如果合作计划得以执行，三星电子将有机会引进最先进的EUV设备，并近距离观察技术的开发过程。计划的修改可能会导致这些机会的丧失。减少设备引进和暂停研发中心建设反映了三星在新任DS部门负责人上任后半导体业务战略的转变，也可能对全球半导体供应链和行业竞争产生更广泛的影响。