国内半导体设备自给率攀升，曝光机技术成关键瓶颈

随着美国芯片禁令的影响，国内半导体产业正加速提升设备自给率，北方华创、中微半导体等企业积极出货。然而，曝光机技术仍是国内自给自足的最大障碍，离子植入和检测技术亦面临挑战。

2023年，国内自制曝光机系统仅占1.2%，ASML对中国市场出货量占其全球业绩近半，凸显高度依赖。上海微电子虽为国内龙头，但技术仍难以稳定生产28纳米以下制程设备。

不过，国内正积极推动曝光机技术，专家预测未来有望实现突破。荷兰学者指出，国内企业有能力研发DUV和EUV模块，甚至可能因快速吸收先进技术而在EUV研发上超越ASML。