中微公司最新披露的年度财报数据显示，2025年该企业实现营业收入123亿元，同比增长36%，整体经营业绩达到历史最高水平。同期企业净利润达到21亿元，相比上一年度增长约4亿元，同比增长幅度达到30%。在研发支出层面，2025年投入资金达37亿元，占全年销售总额的30%，研发项目涉及六大类别及二十余款新型设备。
中微公司董事长尹志尧在介绍相关业务时指出，该企业自主开发的CCP高能等离子体及ICP低能等离子体两类刻蚀设备，涵盖了二十余种细分机型。相关产品已广泛导入国内外一线客户的产线，可支持从65纳米至3纳米乃至更先进制程的多种刻蚀工艺。至2025年年底，该企业刻蚀设备反应台的全球累计出货量已超越6800台，市场占有率呈现持续稳步上升的趋势。
在日前举办的中微公司成立22周年庆典上，尹志尧阐述了企业的中长期发展愿景。他提出，公司规划在五年左右的时间内，完成对六成以上集成电路高端关键设备以及七成以上先进封装设备的覆盖，进而发展为集成电路设备平台型企业，力争成为全球设备覆盖率最高的半导体装备供应商。目前，该企业已有37款成熟设备在主流量产线实现规模化生产，并收获了批量订单。面向2035年，公司致力于在整体规模、产品核心竞争力及客户满意度等维度，全面迈入全球半导体设备行业的第一梯队。在今年4月1日举行的2025年度业绩说明会期间，尹志尧也曾披露过相近的战略布局。
