日本半导体业加速EUV设备引进，ASML日本团队扩容五成

随着日本半导体产业对极紫外光（EUV）曝光机需求的激增，ASML宣布将日本子公司员工数于2026年扩充至600人，增幅达五成。

这一举措旨在支持Rapidus、美光及台积电子公司JASM等企业在日本引进EUV设备，标志着日本在先进半导体生产领域的显著进展。

Rapidus计划在北海道建设的首座晶圆厂将于2024年底前完工，并引入ASML的EUV曝光机，这是日本首次引入此类高端设备。

美光亦将于2025年在广岛工厂部署EUV设备，以生产最尖端的DRAM及高带宽存储器。

ASML不仅在客户工厂附近增设服务据点，还计划在Rapidus工厂附近设立新据点，初期派遣30人，随着2027年2纳米芯片量产计划推进，人员将增至50人。此举深受日本政府补贴政策推动，旨在提升日本在全球先进芯片制造领域的竞争力与经济安全。

Rapidus和美光的项目均获得日本政府大额补贴，进一步加速了EUV曝光机在日本的应用。