SiC衬底产能大跃进：罗姆子公司SiCrystal扩建德国工厂

在半导体材料领域，尤其是SiC（碳化硅）衬底的生产上，罗姆子公司SiCrystal GmbH正引领一场产能与技术的双重飞跃。据最新外媒消息，SiCrystal计划在德国纽伦堡东北部紧邻现有厂址的位置，新建一座占地6000平方米的生产厂房，此举旨在通过最先进的技术装备，显著扩大其SiC衬底的产能规模。预计到2027年，包括新厂房在内，SiCrystal的SiC衬底总产能将实现较2024年的三倍增长，这无疑是对全球SiC市场的一剂强心针。

SiCrystal作为SiC衬底生产的先驱，其历史可追溯至1996年的创立之初，次年即成功推出首批晶圆产品。历经与西门子旗下SiC供应商Freitronics Wafer GmbH&Co.KG的合并，以及2009年被罗姆半导体株式会社的收购，SiCrystal不仅稳固了其在业界的地位，更在罗姆集团的强大支持下，持续推动技术创新与产能扩张。

值得注意的是，罗姆半导体在SiC领域的布局远不止于此。社长松本功在2023年的财报电话会议上透露，公司将在日本宫崎县兴建第二家工厂，专门生产8英寸SiC衬底，以满足内部需求，并计划于2024年正式投产。这是罗姆首次在日本本土涉足SiC衬底生产，标志着其全球产能布局的重要一步。据悉，该项目的实施是罗姆未来几年内为SiC业务投资高达1700亿至2200亿日元（约合人民币77亿元至100亿元）计划的一部分，彰显了罗姆对SiC市场未来发展的坚定信心。

在产能提升的同时，SiCrystal还不断深化与产业链伙伴的合作。今年4月，公司与意法半导体续签了长期供货协议，承诺加大对意法半导体的德国纽伦堡产SiC衬底供应力度，预计协议总价值不低于2.3亿美元。这一合作不仅巩固了SiCrystal在SiC衬底市场的领先地位，也为双方共同推动SiC技术的广泛应用和产业升级奠定了坚实基础。